Výsledky vyhledávání
- 1.0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198 - 2.0566369 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Kombinované plazmatické systémy pro povlakování vnitřních povrchů trubic vícevrstvou ochranou vrstvou s optimalizovanou adhezí k povrchu.
[Combined plasma systems for coating the inner surfaces of tubes with a multi-layer protective layer with optimized adhesion to the surface.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2022 ; 2021
Technické parametry: Maximální povlakované trubice: 250 mm Minimální vnitřní průměr povlakované trubice: 5,5 mm Princip depozice: PVD, pulzní PVD, rozprašování duté katody (trysky), rozprašování drátu kruhového průměru.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337989 - 3.0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330352 - 4.0552302 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
A positively biased external anode for energy control of plasma ions: hollow cathode and magnetron sputtering discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 30, č. 4 (2021), č. článku 045003. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * magnetron sputtering discharge * positively biased anode * Langmuir probe diagnostics * energy-resolved ion mass spectrometry
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.124, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327434Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552302.pdf 1 2.3 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 5.0550970 - FZÚ 2022 RIV eng P - Patentový dokument
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
Method of low-temperature plasma generation, method of an electrically conductive or ferromagnetic tube coating using pulsed plasma and corresponding devices.
2021. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 10.03.2021. Číslo patentu: EP3788181A1
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * hollow cathode discharge * deposition * RF plasma * pulsed plasma * hollow tube
Obor OECD: Coating and films
https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/063713983/publication/EP3788181A1?q=EP3788181A1
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326291 - 6.0550774 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Optimalizované multivrstvé plazmatické povlaky vnitřních prostor dlouhých trubic.
[Optimized multilayer plasma coatings of interiors of long tubes.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2021 ; 2021
Technické parametry: Ohřev povlakované trubice: výkon: 4x120W lineární halogenová žárovka max teplota: 500 st C b) RF výboj - výkon: dle podmínek 50 – 200 W - frekvence: 13.56 MHz - indukční oddělení: feritový transformátor, rezonanční vzduchový transformátor c) HiPPS výboj - pulzní modulace: 1000 Hz opakovací frekvence, 100 μs šířka pulzu - střední dc výkon: 150 W (při napětí v pulzu cca – 330 V) d) depoziční proces - tlak:1 Pa (v depoziční komoře) - průtok plynu: cca 100 sccm (celkový průtok) - pracovní plyn:směs argonu a dusíku Ar/N2 = 100/0 – 50/50 - teplota katody: 800 – 1250 0C - depozit: Cr/CrN/CrN Maximální tvrdost povlaku: 11.5 GPa Maximání mechanické zatížení (scratch test): 450 mN.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * multilayers * hard coating * hollow cathode discharge * hardness * deposition
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326097 - 7.0546536 - FZÚ 2022 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Weiss, Zdeněk - Concepcion-Mairey, F. - Pickering, J.C. - Smid, P.
Emission spectroscopic study of an analytical glow discharge with plane and hollow cathodes: titanium and iron in argon discharge.
Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. Roč. 180, Jun. (2021), č. článku 106208. ISSN 0584-8547. E-ISSN 1873-3565
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: glow discharge * hollow cathode * emission spectra * Boltzmann plots * excitation mechanisms
Obor OECD: Atomic, molecular and chemical physics (physics of atoms and molecules including collision, interaction with radiation, magnetic resonances, Mössbauer effect)
Impakt faktor: 3.662, rok: 2021
Způsob publikování: Open access s časovým embargem
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0323202Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0546536.pdf 1 678.7 KB Autorský postprint povolen - 8.0544644 - FZÚ 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Tuharin, K. - Turek, Z. - Zanáška, Michal - Kudrna, P. - Tichý, M.
Iron oxide and iron sulfide films prepared for dye-sensitized solar cells.
Materials. Roč. 13, č. 8 (2020), č. článku 1797. E-ISSN 1996-1944
Grant CEP: GA ČR GA19-00579S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode plasma jet * iron oxide * iron sulfide * absorption spectroscopy * dye-sensitized solar cell
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.623, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321477Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0544644.pdf 3 5 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 9.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technické parametry: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Ekonomické parametry: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 10.0532408 - ÚPT 2021 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Pérez-Pacheco, A. - García, E. - Calderón-Olvera, R. M. - Muhl, S. - Camps, E. - Lejeune, M. - Mikmeková, Eliška
Nanocomposite films of a-C:H/Bi made using a toroidal planar hollow cathode.
FlatChem. Roč. 20, MAR (2020), č. článku 100160. ISSN 2452-2627. E-ISSN 2452-2627
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: hollow cathode * nanoparticles * amorphous carbon * bismuth
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 5.227, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S245226272030009X
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0310909