Výsledky vyhledávání
- 1.0579897 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Kopal, Jaroslav
SMV-2023-04: Šablona pro bio–aplikace připravená elektronovou litografií.
[SMV-2023-04: Template for bio–applications prepared by EBL.]
Brno: Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně, Fakulta technologická, 2023. 10 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e–beam lithography * templates and replicas
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348682 - 2.0579884 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2023-01: Reliéfní struktury na principu diftraktivní optiky.
[SMV-2023-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2023. 32 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348668 - 3.0579883 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2023-02: Reliéfní optické prvky pro tvarování světelných svazků.
[SMV-2023-02: Relief optical elements for shaping light bundles.]
Brno: IQS Group s.r.o., 2023. 31 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief optical elements * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348665 - 4.0579072 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2023-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347946 - 5.0579070 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-05: DI2023.
[SMV-2023-05: DI2023.]
Brno: DELONG INSTRUMENTS a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347943 - 6.0575662 - ÚPT 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Technologie výroby nelineárních fázových masek.
[The manufacturing process of apodized phase masks.]
Interní kód: APL-2023-03 ; 2023
Technické parametry: Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.
Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345419 - 7.0567776 - ÚPT 2023 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů.
[Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing.]
LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2022 - (Růžička, B.), s. 43-44. ISBN 978-80-87441-30-5.
[LASER62. Lednice (CZ), 09.11.2022-11.11.2022]
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Binary phase gratings * e-beam lithography * reactive ion etching * optical fiber sensors * diffraction grating
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0339029 - 8.0566537 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel
Tvarovač svazku s homogenizující funkcí do tvaru TopHat.
[TopHat beam shaper.]
Interní kód: APL-2022-09 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící k homogenizaci vstupního svazku do tvaru TopHat
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: TopHat beam * diffractive optical element * e-beam lithography * wet etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337865 - 9.0566464 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel - Fořt, Tomáš
Difraktivní mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce.
[Diffractive beam splitter with high precision of angular distribution.]
Interní kód: APL-2022-08 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící jako mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: beam splitter * diffractive optical element * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337789 - 10.0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337763