Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0539634 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Škoda, D. - Pavlačík, P. - Proroková, J. - Matějka, Milan - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
    Difraktivní optický element velikosti záměrného bodu vyvazující dopadající záření do 1. difrakčního řádu s využitím ve sportovní a vojenské optice.
    [Diffractive optical element of size of aiming point binding incident radiation to the 1st diffraction order with use in sports and military optics.]
    Interní kód: APL-2020-23 ; 2020
    Technické parametry: Vzorek obsahují řadu difraktivních bodů se submikronovou reliéfní strukturou vytvořenou metodou EBL a Lift-off za účelem vyvázání světla z laserové diody
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317342
     
  2. 2.
    0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
    SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314396
     
  3. 3.
    0536583 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Matějka, Milan - Materna-Mikmeková, Eliška - Radlička, Tomáš - Řiháček, Tomáš - Sháněl, O. - Schneider, M. - Mareček, D.
    Fázová destička pro použití v transmisní elektronové mikroskopii.
    [Phase plate for transmission electron microscopy.]
    Interní kód: APL-2020-07 ; 2020
    Technické parametry: Křemíkový čip (tloušťka 200 µm) nesoucí tenkou nitridovou membránu (tloušťka ⁓70 nm). Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm. Celý vzorek je pokoven tenkou vrstvou molybdenu (⁓3 nm).
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314347
     
  4. 4.
    0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
    Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
    [Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
    Interní kód: APL-2020-04 ; 2020
    Technické parametry: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e–beam lithography * reactive ion etching
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314036
     
  5. 5.
    0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313879
     
  6. 6.
    0535780 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Stoklasa, B. - Venos, Š. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Pokorný, Pavel
    Binární difrakční optický element pro korekci Besselovského svazku.
    [Binary diffractive optical element for Bessel beam correction.]
    Interní kód: APL-2020-03 ; 2020
    Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící ke korekci vstupního Besselovského svazku
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: Bessel beam reactive ion etching * diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313713
     
  7. 7.
    0535442 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2020-20: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2020-20: Relief microstructures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS Group s.r.o., 2020. 15 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313460
     
  8. 8.
    0535438 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2020-19: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2020-19: Relief structures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS nano s.r.o., 2020. 21 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313459
     
  9. 9.
    0518135 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2019-75: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2019-75: Relief microstructures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS nano s.r.o., 2019. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303311
     
  10. 10.
    0518131 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2019-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2019-06: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2019. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: calibration specimen * relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303306