Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
    Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
    Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
    GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
    https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348
     
     
  2. 2.
    0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
    Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
    Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344
     
     
  3. 3.
    0471529 - FZÚ 2017 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Bulgakova, Nadezhda M. - Zhukov, V.P. - Mirza, M. Inam - Meshcheryakov, Y.P. - Tomáštík, Jan - Michálek, Václav - Haderka, O. - Fekete, Ladislav - Rubenchik, A.M. - Fedoruk, M.P. - Mocek, Tomáš
    Ultrashort-pulse laser processing of transparent materials: insight from numerical and semi-analytical models.
    LASER APPLICATIONS IN MICROELECTRONIC AND OPTOELECTRONIC MANUFACTURING (LAMOM) XXI. Bellingham: SPIE, 2016 - (Neuenschwander, B.; Roth, S.; Grigoropoulos, C.; Makimura, T.), 1-16, s. 1-16, č. článku 97350N. Proceedings of SPIE, 9735. ISBN 978-162841970-2. ISSN 0277-786X.
    [Conference on Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing XXI (LAMOM). San Francisco (US), 15.02.2016-18.02.2016]
    Grant CEP: GA MŠMT LO1409
    Grant ostatní: FUNBIO(XE) CZ.2.16/3.1.00/21568
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: femtosecond laser irradiation * dielectrics * laser-induced modification * ablation threshold * modeling
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268905
     
     
  4. 4.
    0436667 - ÚFP 2015 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Koláček, Karel - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Frolov, Oleksandr - Prukner, Václav - Melich, Radek
    An extreme ultraviolet interferometer suitable to generate dense interference pattern.
    Proceedings of SPIE 9206, Advances in Metrology for X-Ray and EUV Optics V. Bellingham: SPIE, 2014 - (Assoufid, L.; Ohashi, H.; Asundi, A.), 92060D-92060D. SPIE, 9206. ISBN 978-1-62841-233-8. ISSN 0277-786X.
    [SPIE Conference on Advances in Metrology for X-Ray and EUV Optics V. San Diego (GB), 19.08.2014-21.08.2014]
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LG13029
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Extreme ultraviolet radiation * XUV interferometer * ablation threshold contour * XUV photodesorption * direct nanopatterningby XUV * application of Ar8+ XUV laser
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=1904459
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240344
     
     
  5. 5.
    0423048 - ÚFP 2014 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Koláček, Karel - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Frolov, Oleksandr - Prukner, Václav - Melich, Radek - Choukourov, A.
    A new method of determination of ablation threshold contour in the spot of focused XUV laser beam of nanosecond duration.
    Proceedings of SPIE 8777. Vol. 8777. Bellingham, Washington: SPIE Press, 2013 - (Juha, L.; Bajt, S.; London, R.; Hudec, R.; Pína, L.), 87770N-87770N. Proceedings of SPIE, 8777. ISBN 978-0-8194-9579-2. ISSN 0277-786X.
    [SPIE Optics + Optoelectronics 2013. Prague (CZ), 15.04.2013-18.04.2013]
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LG13029
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Extreme ultraviolet radiation * XUV interferometer, ablation threshold contour * XUV photodesorption * direct nanopatterningby XUV * application of Ar8+ XUV laser
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=1685663
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0229123
     
     
  6. 6.
    0397263 - FZÚ 2014 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Margarone, Daniele - Velyhan, Andriy - Torrisi, L. - Cutroneo, M. - Giuffrida, L. - Picciotto, A. - Krása, Josef - Cavallaro, S. - Limpouch, J. - Klimo, O. - Psikal, J. - Proska, J. - Novotný, F.
    Influence of the ablation threshold fluence on laser-driven acceleration.
    Applied Surface Science. Roč. 272, May (2013), s. 132-137. ISSN 0169-4332. E-ISSN 1873-5584
    Grant CEP: GA MŠMT ED1.1.00/02.0061; GA MŠMT EE2.3.20.0279; GA MŠMT EE.2.3.20.0087; GA MŠMT(CZ) 7E09092; GA MŠMT(CZ) LC528; GA ČR(CZ) GAP205/11/1165
    Grant ostatní: ELI Beamlines(XE) CZ.1.05/1.1.00/02.0061; OPVK 3 Laser Zdroj(XE) CZ.1.07/2.3.00/20.0279; OP VK 2 LaserGen(XE) CZ.1.07/2.3.00/20.0087; 7FP LASERLAB-EUROPE(XE) 228334
    Program: EE; FP7
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
    Klíčová slova: nanosecond lasers * ablation threshold * laser-driven acceleration
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 2.538, rok: 2013
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0224875
     
     
  7. 7.
    0316312 - FZÚ 2009 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Margarone, D. - Láska, Leoš - Torrisi, L. - Gammino, S. - Krása, Josef - Krouský, Eduard - Parys, P. - Pfeifer, Miroslav - Rohlena, Karel - Rosinski, M. - Ryc, L. - Skála, Jiří - Ullschmied, Jiří - Velyhan, Andriy - Wolowski, J.
    Studies of craters' dimension for long-pulse laser ablation of metal targets at various experimental conditions.
    [Studium rozměrů kráterů při ablaci kovových terčíků dlouhým laserovým pulzem za různých expereimentálních podmínek.]
    Applied Surface Science. Roč. 254, č. 9 (2008), s. 2797-2803. ISSN 0169-4332. E-ISSN 1873-5584
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC528; GA AV ČR IAA100100715
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523; CEZ:AV0Z20430508
    Klíčová slova: laser-plasmas * craters * focus position * ablation threshold
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Impakt faktor: 1.576, rok: 2008
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0004906
     
     
  8. 8.
    0086002 - FZÚ 2008 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Kuba, J. - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Koptyaev, Sergey - Krása, Josef - Velyhan, Andriy - Bergh, M. - Caleman, C. - Hajdu, J. - Bionta, R.M. - Chapman, H. - Hau-Riege, S.P. - London, R.A. - Jurek, M. - Krzywinski, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Meyer-ter-Vehn, J. - Tronnier, A. - Sokolowski-Tinten, K. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Wabnitz, H. - Zastrau, U.
    Characteristics of focused soft X-ray free-electron laser beam determined by ablation of organic molecular solids.
    [Stanovení charakteristik fokusovaného svazku rentgenového laseru s volnými elektrony pomocí ablace organických molekulárních materiálů.]
    Optics Express. Roč. 15, č. 10 (2007), s. 6036-6042. ISSN 1094-4087
    Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA AV ČR KAN300100702
    Grant ostatní: GA MŠk(CZ) 1K05026
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523; CEZ:AV0Z40400503
    Klíčová slova: free-electron laser * soft X-rays * focusing * beam profile * ablation threshold * laser-matter interaction
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Impakt faktor: 3.709, rok: 2007
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0148382
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.