Výsledky vyhledávání
- 1.0582247 - ÚFP 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Tkachenko, V. - Lipp, V. - Buescher, M. - Capotondi, F. - Hoeppner, H. - Medvedev, Nikita - Pedersoli, E. - Prandolini, M.J. - Rossi, G.M. - Tavella, F. - Toleikis, S. - Windeler, M. - Ziaja, B. - Teubner, U.
Effect of Auger recombination on transient optical properties in XUV and soft X-ray irradiated silicon nitride.
Scientific Reports. Roč. 11, č. 1 (2021), č. článku 5203. ISSN 2045-2322. E-ISSN 2045-2322
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: XUV * X-ray * silicon nitride
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 4.997, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.nature.com/articles/s41598-021-84677-w
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350345 - 2.0579468 - ÚFP 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Medvedev, Nikita - Noei, H. - Toleikis, S. - Ziaja, B.
Response of free-standing graphene monolayer exposed to ultrashort intense XUV pulse from free-electron laser.
Journal of Chemical Physics. Roč. 154, č. 20 (2021), č. článku 204706. ISSN 0021-9606. E-ISSN 1089-7690
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
Grant ostatní: European Cooperation in Science and Technology(BE) CA17126
Program: COST
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: XUV * graphene * free-electron laser
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 4.304, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://pubs.aip.org/aip/jcp/article-abstract/154/20/204706/200024/Response-of-free-standing-graphene-monolayer?redirectedFrom=fulltext
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348305 - 3.0579467 - ÚFP 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Medvedev, Nikita - Babaev, P. - Chalupský, J. - Juha, Libor - Volkov, A.E.
An interplay of various damage channels in polyethylene exposed to ultra-short XUV/X-ray pulses.
Physical Chemistry Chemical Physics. Roč. 23, č. 30 (2021), s. 16193-16205. ISSN 1463-9076. E-ISSN 1463-9084
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2018114; GA ČR(CZ) GA20-08452S
GRANT EU: European Commission(XE) 871124 - LASERLAB-EUROPE
Grant ostatní: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy - GA MŠk(CZ) LM2018140; European Cooperation in Science and Technology(BE) CA17126
Program: COST
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: polyethylene * X-ray * XUV
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.945, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2021/CP/D1CP02199K
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348304 - 4.0563929 - ÚFP 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Cui, H. - Frolov, Oleksandr - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Chalupský, Jaromír - Zhao, Y. - Koláček, Karel - Juha, Libor
Characterizing the Grating-like Nanostructures Formed on BaFinf2/inf Surfaces Exposed to Extreme Ultraviolet Laser Radiation.
Applied Sciences-Basel. Roč. 12, č. 3 (2022), č. článku 1251. E-ISSN 2076-3417
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LTC20061; GA ČR(CZ) GA20-08452S
Grant ostatní: European Cooperation in Science and Technology(BE) CA17126
Program: COST
Institucionální podpora: RVO:61389021 ; RVO:68378271
Klíčová slova: BaF 2 * Capillary-discharge laser * Extreme ultraviolet * Nanostructures * XUV radiation
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics); Optics (including laser optics and quantum optics) (FZU-D)
Impakt faktor: 2.7, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2076-3417/12/3/1251/htm
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335709 - 5.0552955 - FZÚ 2022 RIV eng P - Patentový dokument
Nejdl, Jaroslav
Apparatus for spectrum and intensity profile characterization of a beam, use thereof and method thereof.
2021. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 09.02.2021. Číslo patentu: US10914628B2
Grant CEP: GA MŠMT EF16_019/0000789; GA MŠMT(CZ) LM2018141
Grant ostatní: OP VVV - ADONIS(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000789
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: spectrometry * beam intensity profile diagnostics * XUV * X-rays
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/060327011/publication/US10914628B2?q=US10914628B2
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0328013 - 6.0546698 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Veyrinas, K. - Vábek, Jan - Valentin, C. - Descamps, D. - Péjot, C. - Burgy, F. - Constant, E. - Mével, E. - Catoire, F.
Spectral filtering of high-order harmonics via optics-free focusing.
Optics Express. Roč. 29, č. 19 (2021), s. 29813-29827. ISSN 1094-4087
Výzkumná infrastruktura: ELI Beamlines III - 90141
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: high-harmonic generation * XUV optics * laser-matter interaction * XUV spectral filtering
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.833, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0323782Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0546698.pdf 0 5.8 MB Vydavatelský postprint povolen - 7.0545622 - FZÚ 2022 RIV cze P - Patentový dokument
Nejdl, Jaroslav
Kompaktní systém pro charakterizaci spektra a profilu intenzity svazku krátkovlnného záření.
[A compact system for characterizing the spectrum and intensity profile of shortwave radiation beams.]
2018. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR v. v. i. Datum udělení patentu: 14.02.2018. Číslo patentu: 307169
Grant CEP: GA MŠMT EF15_008/0000162
Grant ostatní: ELI Beamlines(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_008/0000162
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: spektrometrie * diagnostika profilu svazku * XUV * měkké RTG záření
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/307/307169.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0322301 - 8.0545328 - FZÚ 2022 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Tkachenko, V. - Lipp, V. - Buescher, M. - Capotondi, F. - Hoeppner, H. - Medvedev, Nikita - Pedersoli, E. - Prandolini, M.J. - Rossi, G.M. - Tavella, F. - Toleikis, S. - Windeler, M. - Ziaja, B. - Teubner, U.
Effect of Auger recombination on transient optical properties in XUV and soft X-ray irradiated silicon nitride.
Scientific Reports. Roč. 11, č. 1 (2021), č. článku 5203. ISSN 2045-2322. E-ISSN 2045-2322
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: temporal diagnostics of FEL pulses * optical properties of silicon nitride irradiated by XUV and soft X-ray
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.997, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0322052Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0545328.pdf 2 2.4 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 9.0545323 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Medvedev, Nikita - Babaev, P. - Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Volkov, A.E.
An interplay of various damage channels in polyethylene exposed to ultra-short XUV/X-ray pulses.
Physical Chemistry Chemical Physics. Roč. 23, č. 30 (2021), s. 16193-16205. ISSN 1463-9076. E-ISSN 1463-9084
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2018114; GA ČR(CZ) GA20-08452S
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Výzkumná infrastruktura: e-INFRA CZ - 90140
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: polyethylene damage mechanism * exposition to ultra-short XUV/X-ray pulses * theoretical study
Obor OECD: Particles and field physics
Impakt faktor: 3.945, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1039/d1cp02199k
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0322047 - 10.0541068 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vozda, V. - Medvedev, Nikita - Chalupský, J. - Čechal, J. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Krůs, Miroslav - Kunc, J.
Detachment of epitaxial graphene from SiC substrate by XUV laser radiation.
Carbon. Roč. 161, May (2020), s. 36-43. ISSN 0008-6223. E-ISSN 1873-3891
Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: radiation * XUV laser * epitaxial graphene
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 9.594, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0008622320300282?via%3Dihub
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318648