Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0541068 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Vozda, V. - Medvedev, Nikita - Chalupský, J. - Čechal, J. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Krůs, Miroslav - Kunc, J.
    Detachment of epitaxial graphene from SiC substrate by XUV laser radiation.
    Carbon. Roč. 161, May (2020), s. 36-43. ISSN 0008-6223. E-ISSN 1873-3891
    Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: radiation * XUV laser * epitaxial graphene
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 9.594, rok: 2020
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0008622320300282?via%3Dihub
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318648
     
     
  2. 2.
    0538597 - ÚFP 2021 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Frolov, Oleksandr - Koláček, Karel - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Choukourov, A.
    Nanostructuring of PMMA, GaAs, SiC and Si samples by focused XUV laser beam.
    Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-ray Radiation VII. Bellingham: SPIE, 2019 - (Juha, L.; Bajt, S.; Guizard, S.), Roč. 11035 (2019), č. článku 110350K. Proceedings of SPIE, 11035. ISBN 978-151062736-9. ISSN 0277-786X.
    [Conference on Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-Ray Radiation VII. Praha (CZ), 01.04.2019-03.04.2019]
    Grant CEP: GA MŠMT LTT17015
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Ablation * Diffraction pattern * Nanopatterning * Nanostructuring * XUV laser
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/11035/110350K/Nanostructuring-of-PMMA-GaAs-SiC-and-Si-samples-by-focused/10.1117/12.2521444.short?SSO=1
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0316374
     
     
  3. 3.
    0525137 - FZÚ 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Vozda, Vojtěch - Medvedev, Nikita - Chalupský, Jaromír - Čechal, J. - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Juha, Libor - Krůs, M. - Kunc, J.
    Detachment of epitaxial graphene from SiC substrate by XUV laser radiation.
    Carbon. Roč. 161, May (2020), s. 36-43. ISSN 0008-6223. E-ISSN 1873-3891
    Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
    GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
    Výzkumná infrastruktura: CEITEC Nano - 90041
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: epitaxial graphene * SiC substrate * graphene detachment * XUV laser radiation * method of ablative imprints * calcutation by XTANT code
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 9.594, rok: 2020
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1016/j.carbon.2020.01.028
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309343
     
     
  4. 4.
    0484976 - ÚFP 2018 RIV CZ eng A - Abstrakt
    Frolov, Oleksandr - Koláček, Karel - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Choukourov, A. - Pira, Peter
    XUV Nanosecond Laser Ablation for Pulsed Laser Deposition of LiF and CsI.
    Proceedings of the 3rd International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications. Prague: Institute of Plasma Physics, Czech Academy of Sciences, 2017 - (Koláček, K.; Sobota, J.). s. 15. ISBN 978-80-87026-08-3.
    [International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications 2017, 3rd IW FX & XUVOA /3./. 04.10.2017-06.10.2017, Prague]
    Grant CEP: GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021 ; RVO:61388955
    Klíčová slova: XUV laser * laser ablation * LiF * CsI * surface modification * capillary discharge
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics); Optics (including laser optics and quantum optics) (UFCH-W)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0282242
     
     
  5. 5.
    0484975 - ÚFP 2018 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Štraus, Jaroslav - Schmidt, Jiří - Koláček, Karel - Frolov, Oleksandr
    The role of pre-ionization on EUV capillary laser profile.
    Proceedings of the 3rd International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications, 3rd IW FX & XUVOA. Prague: Institute of Plasma Physics Czech Academy of Sciences, 2017 - (Koláček, K.; Sobota, J.), č. článku O-10. ISBN 978-80-870026-09-0.
    [International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications 2017, 3rd IW FX & XUVOA /3./. Prague (CZ), 04.10.2017-06.10.2017]
    Grant CEP: GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Pre-pulse * capillary XUV laser beam profile
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280110
     
     
  6. 6.
    0484973 - ÚFP 2018 CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Hübner, Jakub - Nevrkla, M.
    Double pulse capillary discharge assessment for nitrogen soft X-ray laser.
    Proceedings of the 3rd International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications, 3rd IW FX & XUVOA. Prague: Institute of Plasma Physics Czech Academy of Sciences, 2017 - (Koláček, K.; Sobota, J.), č. článku O-11. ISBN 978-80-870026-09-0.
    [International Workshop on Frontiers of X&XUV Optics and its Applications 2017, 3rd IW FX & XUVOA /3./. Prague (CZ), 04.10.2017-06.10.2017]
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: capillary discharge * XUV laser * pinch dynamics * nitrogen recombination schema * ablation
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280236
     
     
  7. 7.
    0484260 - ÚFP 2018 RIV US eng A - Abstrakt
    Schmidt, Jiří - Koláček, Karel - Štraus, Jaroslav - Frolov, Oleksandr
    Influence of Initial Conditions On Discharge-Pumped XUV Laser Beam.
    Bulletin of the American Physical Society. Vol. 62. Pittsburgh: American Physical Society, 2017. s. 38. ISSN 0003-0503.
    [APS: 70th Annual Gaseous Electronics Conference 2017. 06.11.2017-10.11.2017, Pittsburgh, Pennsylvania]
    Grant CEP: GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Capillary discharge * XUV laser
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    http://meetings.aps.org/Meeting/GEC17/Session/GT1.50
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0279405
     
     
  8. 8.
    0483585 - ÚFP 2018 RIV FR eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Frolov, Oleksandr - Koláček, Karel - Schmidt, Jiří - Štraus, Jaroslav - Choukourov, A. - Pira, Peter
    XUV nanosecond laser ablation for pulsed laser deposition of lithium fluoride and caesium iodide.
    EPS 2017: 44th European Physical Society Conference on Plasma Physics. Vol. 41F. Mulhouse: European Physical Society, 2017 - (Fajardo, M.; Westerhof, E.; Riconda, C.; Melzer, A.; Bret, A.; Dromey, B.), č. článku P2.209. Europhysics Conference Abstracts (ECA). ISBN 979-10-96389-07.
    [EPS 2017 Conference on Plasma Physics/44./. Belfast (IE), 26.06.2017-30.06.2017]
    Grant CEP: GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021 ; RVO:61388955
    Klíčová slova: XUV laser * laser ablation * LiF * CsI * surface modification * capillary discharge
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Fluids and plasma physics (including surface physics) (UFCH-W)
    http://ocs.ciemat.es/EPS2017PAP/pdf/P2.209.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278877
     
     
  9. 9.
    0471563 - FZÚ 2017 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Bulíř, Jiří - Zikmund, Tomáš - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Fekete, Ladislav - Juha, Libor
    Photoluminescence excitation of lithium fluoride films by surface plasmon resonance in Kretschmann configuration.
    Applied Physics A - Materials Science & Processing. Roč. 122, č. 4 (2016), s. 1-7, č. článku 412. ISSN 0947-8396. E-ISSN 1432-0630
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP108/11/1312; GA MŠMT(CZ) LM2011029
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: local surface plasmon resonance * luminescence * XUV laser * LiF
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.455, rok: 2016
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268939
     
     
  10. 10.
    0467175 - ÚFP 2017 RIV US eng O - Ostatní výsledky
    Schmidt, Jiří - Koláček, Karel - Štraus, Jaroslav - Frolov, Oleksandr
    Discharge-pumped xuv source (Annual Gaseous Electronics Conference/69./.
    2016
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: capillary discharge * XUV laser
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0265282
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.