Výsledky vyhledávání
- 1.0552189 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Tvarog, Drahoslav - Olejníček, Jiří - Kratochvíl, Jiří - Kšírová, Petra - Poruba, A. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Characterization of radical-enhanced atomic layer deposition process based on microwave surface wave generated plasma.
Journal of Applied Physics. Roč. 130, č. 1 (2021), č. článku 013301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA TA ČR(CZ) TM01000039; GA TA ČR TF03000025
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave surfatron * low-temperature plasma * ALD * TiO2 * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.877, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1063/5.0046829
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327391 - 2.0537056 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kapran, Anna - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém.
[Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system.]
Interní kód: FVMF1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave surfatron * MinimalFab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314808 - 3.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681