Výsledky vyhledávání
- 1.0457443 - ÚFE 2016 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kuzmiak, Vladimír - Maradudin, A. A.
Asymmetric transmission of surface plasmon polaritons on planar gratings.
Physical Review. A. Roč. 92, č. 5 (2015), s. 538131-538139. ISSN 1050-2947
Grant CEP: GA MŠMT LH12009
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: Electromagnetic wave polarization * Photons * Diffractive structures
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 2.808, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0257844Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 457443.pdf 8 1.3 MB Jiná vyžádat - 2.0398514 - FZÚ 2014 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Peláez, R.J. - Afonso, C.N. - Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Piksová, K.
2D plasmonic and diffractive structures with sharp features by UV laser patterning.
Nanotechnology. Roč. 24, č. 9 (2013), "095301-1"-"095301-7". ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100718
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: silver thin film * silver nanoparticles * plasmonics * diffractive structures * laser processing
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 3.672, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0226001 - 3.0047118 - ÚPT 2006 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, František
Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií.
[Technology of relief diffractive structures mode by e-beam lithography.]
Interní kód: DIFF ; 2003
Technické parametry: Technologie přípravy difraktivních struktur ve vrstvě elektronového rezistu pomocí elektronové litografie umožňuje průmyslovou přípravu.
Ekonomické parametry: Průmyslová výroba bezpečnostních hologramů v České republice.
Grant CEP: GA AV ČR(CZ) IBS2065014
Klíčová slova: E-beam lithography * diffractive structures * security holograms * CGH
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0138118 - 4.0022556 - ÚPT 2006 CZ cze K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Daněk, Lukáš
Návrh difraktivních struktur pro elektronový litograf BS600.
[Design of diffractive elements manufactured on electron-beam lithograph BS600.]
PDS 2004 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronové optiky. Brno: ÚPT AV ČR, 2005, s. 11-12. ISBN 80-239-4561-0.
[PDS 2004. Brno (CZ), 15.03.2005]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: Electron-beam lithography * diffractive structures
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0111284