Výsledky vyhledávání
- 1.0567239 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Helán, R. - Urban, F. - Somer, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav
Vláknový spektrální filtr s nelineárně proměnnou periodou difrakční struktury.
[Fiber optical spectrum filter based on diffraction structure with variable period.]
Interní kód: APL-2022-34 ; 2022
Technické parametry: Nelineární difrakční struktura zapsaná ve standardním jednovidovém optickém vlákně. Perioda mřížky kolem 530 nm, měnící se v průběhu struktury. Délka struktury 6-18 mm. Spektrální odezva s lineárně se měnící odrazivostí v závislosti na vlnové délce.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Radek Helán, helan@proficomms.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Fiber Bragg grating * FBG nonlinear diffractive structure
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338517 - 2.0566648 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Fořt, Tomáš - Helán, R. - Urban, F.
Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky.
[Apodized phase mask for the manufacture of fiber Bragg grating filter with defined transmission spectrum.]
Interní kód: APL-2022-30 ; 2022
Technické parametry: Fázová difrakční maska s rozlišením periody 0,1 nm připravená v materiálu fused silica naladěná pro expozici světlem s vlnovou délkou 248 nm a přípravu nelineárního vláknového filtru.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * diffraction grating * electron-beam lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337962