0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Interní kód: APL-2018-05 ; 2018
Technické parametry: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * quality control * image processing
Obor OECD: Automation and control systems
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289410