Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0583382 - ÚFP 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Chalupský, J. - Vozda, V. - Hering, J. - Kybic, J. - Burian, Tomáš - Dziarzhytski, S. - Frantálová, K. - Hájková, V. - Jelínek, Šimon - Juha, L. - Keitel, B. - Kuglerová, M. - Kuhlmann, M. - Petryshak, B. - Ruiz-Lopez, M. - Vyšín, L. - Wodzinski, T. - Plönjes, E.
    Deep learning for laser beam imprinting.
    Optics Express. Roč. 31, č. 12 (2023), s. 19703-19721. ISSN 1094-4087
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA20-08452S
    GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: deep learning * laser beam imprinting * X-ray
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-31-12-19703&id=531063
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0351354
     
     
  2. 2.
    0582700 - ÚFP 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Makarov, S. - Makita, M. - Nakatsutsumi, M. - Pikuz, T.A. - Ozaki, N. - Preston, T.R. - Appel, K. - Konopková, Z. - Cerantola, V. - Brambrink, E. - Schwinkendorf, J.P. - Mohacsi, I. - Burian, Tomáš - Chalupský, J. - Hájková, V. - Juha, L. - Vozda, V. - Nagler, B. - Zastrau, U. - Pikuz, S. - Yabashi, M.
    Direct LiF imaging diagnostics on refractive X-ray focusing at the EuXFEL High Energy Density instrument.
    Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 30, January (2023), s. 208-216. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA20-08452S
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: compound refractive lenses * focusing system * lithium fluoride (LiF) detector * X-ray beam characterization * X-ray focusing * X-ray free-electron lasers
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 2.5, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    https://scripts.iucr.org/cgi-bin/paper?S1600577522006245
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350782
     
     
  3. 3.
    0541068 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Vozda, V. - Medvedev, Nikita - Chalupský, J. - Čechal, J. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Krůs, Miroslav - Kunc, J.
    Detachment of epitaxial graphene from SiC substrate by XUV laser radiation.
    Carbon. Roč. 161, May (2020), s. 36-43. ISSN 0008-6223. E-ISSN 1873-3891
    Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: radiation * XUV laser * epitaxial graphene
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 9.594, rok: 2020
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0008622320300282?via%3Dihub
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318648
     
     
  4. 4.
    0540442 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Vozda, V. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Enkisch, H. - Faatz, B. - Hermann, M. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Keitel, B. - Klinger, D. - Loch, R. - Louis, E. - Makhotkin, I.A. - Plönjes, E. - Saksl, K. - Siewert, F. - Sobierajski, R. - Strobel, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Vries de, M. S. - Zelinger, Z. - Chalupský, J.
    Characterization of megahertz X-ray laser beams by multishot desorption imprints in PMMA.
    Optics Express. Roč. 28, č. 18 (2020), s. 25664-25681. ISSN 1094-4087
    Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: X-ray * laser beams * PMMA
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.894, rok: 2020
    Způsob publikování: Open access
    https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-28-18-25664&id=434470
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318045
     
     
  5. 5.
    0508475 - ÚFP 2020 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    van den Berg, Q.Y. - Fernandez-Tello, E.V. - Burian, Tomáš - Chalupský, J. - Chung, H.-K. - Ciricosta, O. - Dakovski, G.L. - Hájková, V. - Hollebon, P. - Juha, Libor - Krzywinski, J. - Lee, R. W. - Minitti, M.P. - Preston, T.R. - de la Varga, A.G. - Vozda, V. - Zastrau, U. - Wark, J. S. - Velarde, P. - Vinko, S.M.
    Clocking Femtosecond Collisional Dynamics via Resonant X-Ray Spectroscopy.
    Physical Review Letters. Roč. 120, č. 5 (2018), č. článku 055002. ISSN 0031-9007. E-ISSN 1079-7114
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: electron-impact-ionization * highly-charged ions * hot dense matter * rate coefficients * cross-sections * lithium-like * plasmas * atoms * rates * laser
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 9.227, rok: 2018
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://journals.aps.org/prl/pdf/10.1103/PhysRevLett.120.055002
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0299370
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    Clocking Femtosecond Collisional Dynamics via Resonant X-Ray Spectroscopy.pdf51 MBVydavatelský postprintvyžádat
     
     
  6. 6.
    0503533 - ÚFP 2019 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Vozda, V. - Burian, Tomáš - Chalupský, J. - Dědič, V. - Hájková, V. - Hlídek, P. - Juha, Libor - Kozlová, Michaela - Krůs, Miroslav - Kunc, J. - Rejhon, M. - Vyšín, L. - Rocca, J.J. - Franc, J.
    Micro-Raman mapping of surface changes induced by XUV laser radiation in cadmium telluride.
    Journal of Alloys and Compounds. Roč. 763, 30. 9. 2018 (2018), s. 662-669. ISSN 0925-8388. E-ISSN 1873-4669
    Grant CEP: GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT(CZ) LM2015083
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: afm * Atomic force microscopy * Crystal structure * Impurities in semiconductors * Laser processing * Luminescence * Semiconductors
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 4.175, rok: 2018
    https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925838818320693?via%3Dihub
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295352
     
     
  7. 7.
    0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
    Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
    Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
    GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
    https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348
     
     
  8. 8.
    0500161 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Milov, I. - Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Medvedev, Nikita - Lipp, V. - Chalupský, J. - Sturm, J.M. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Siewert, F. - van de Kruijs, R. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Juha, L. - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, T. - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H. - Bijkerk, F.
    Mechanism of single-shot damage of Ru thin films irradiated by femtosecond extreme UV free-electron laser.
    Optics Express. Roč. 26, č. 15 (2018), s. 19665-19685. ISSN 1094-4087
    Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: molecular-dynamics * threshold measurements * multilayer optics * lattice-dynamics * metal targets * pulse * ablation * spallation * radiation * surface
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Impakt faktor: 3.561, rok: 2018
    https://www.osapublishing.org/oe/abstract.cfm?uri=oe-26-15-19665
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292293
     
     
  9. 9.
    0489644 - ÚFP 2019 RIV DK eng J - Článek v odborném periodiku
    Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
    Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
    Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
    [Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284055
     
     
  10. 10.
    0486531 - ÚFP 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Sobierajski, R. - Jacyna, I. - Dlužewski, P. - Klepka, M.T. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Burian, T. - Hájková, V. - Juha, Libor - Saksl, K. - Vozda, V. - Makhotkin, I. - Louis, E. - Faatz, B. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Enkisch, H. - Hermann, M. - Strobel, S. - Loch, R.A. - Chalupský, J.
    Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate.
    Optics Express. Roč. 24, č. 14 (2016), s. 15468-15477. ISSN 1094-4087
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: free-electron lasers * damage * x-rays * soft x-rays * extreme ultraviolet (EUV) * semiconductor materials * materials processing
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.307, rok: 2016
    https://doi.org/10.1364/OE.24.015468
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281362
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.