0482541 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Maňka, Tadeáš - Šerý, MojmírAparatura pro mokré leptání Si substrátů.
[System for wet etching of Si substrates.]
Interní kód: APL-2017-09 ; 2017
Technické parametry: Funkční vzorek je určen pro mokré leptání Si substrátů. Většina komponent je vyrobena z teflonu, kvůli jeho vysoké chemické odolnosti. Aparatura je vybavena dvěma držáky substrátu. Jeden slouží pro leptání pouze jedné strany vzorku a druhý umožňuje leptat z obou stran. Pro dosažení dobré homogenity leptání je systém vybaven elektrickým pohonem vzorku. Aby nedošlo k nechtěnému poškození elektromotoru nebo vzorku, točivý moment přenáší třecí spojka. Řízení systému zajišťuje ovládací panel, který umožňuje regulovat otáčky elektromotoru a měřit teplotu leptací lázně v reálném čase.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV10618; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Wet etching * KOH etching of Si
Obor OECD: Polymer science
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277968
