Výsledky vyhledávání
- 1.0582171 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Ježek, Jan - Brzobohatý, Oto - Maňka, Tadeáš
Vakuová mini komora s integrovaným dutým fotonickým vláknem pro nakládání a transport nanočástic.
[Vacuum mini-chamber with integrated hollow photonic fiber for loading and transporting nanoparticles.]
Interní kód: APL-2023-17 ; 2023
Technické parametry: Vakuová mini komora s integrovaným dutým fotonickým vláknem pro nakládání a transport nanočástic slouží jako zdroj částic pro měřící komoru. Částice jsou zachyceny laserem optickými silami a transportovány dutým optickým vláknem do druhé vakuové komory. Jednotlivé komponenty jsou vytištěny na 3D tiskárně a následně povrchově upraveny tak aby byly vakuově kompatibilní. Těsnění vlákna je řešeno silikonovou hadičkou a těsnícími o-kroužky. Komora je do sestavy připojitelná s využitím klecového systému.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Jan Ježek, Ph.D., jezek@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_026/0008460
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: optical forces * vacuum * nanoparticles
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350250 - 2.0566594 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šerý, Mojmír - Maňka, Tadeáš - Rataj, T. - Veselka, D. - Trtílek, M.
Optimalizovaný světelný zdroj pro hyperspektrální zobrazování a rozsah vlnových délek 350-1100 nm.
[Optimized light source for hyperspectral imaging and wavelength range 350-1100 nm.]
Interní kód: APL-2022-21 ; 2022
Technické parametry: Světelný zdroj, který slouží pro osvit vzorků snímaných hyperspektrální kamerou. Ozářená obdélníkova plocha 400x50 mm, plošná hustota ozáření 300 W s maximální homogenitou.
Ekonomické parametry: Prototyp realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40455
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: hyperspectral imaging * push-broom spectrometer * light source
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337911 - 3.0566587 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šerý, Mojmír - Maňka, Tadeáš - Vaculík, Ondřej - Šilhan, Lukáš - Rataj, T. - Trtílek, M.
Hyperspektrální kamera s vysokým rozlišením a rozsahem vlnových délek 350-1100 nm.
[High resolution hyperspectral camera with a wavelength range of 350-1100 nm.]
Interní kód: APL-2022-20 ; 2022
Technické parametry: Hyperspektrální kamera s vysokým rozlišením a rozsahem vlnových délek 350-1100 nm. Spektrální rozlišení 0,1 nm. Rozsah měřeného spektrálního pásma minimálně 100 nm. Přeladění spektroskopu v rozsahu vlnových délek 350-1100 nm. Zobrazující spektrometr typu push-broom.
Ekonomické parametry: Prototyp realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40455
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: hyperspectral imaging * push-broom spectrometer
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337909 - 4.0566585 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šerý, Mojmír - Maňka, Tadeáš - Rataj, T. - Veselka, D. - Trtílek, M.
Hyperspektrální kamera s vysokým rozlišením a omezeným rozsahem vlnových délek.
[High resolution hyperspectral camera with limited wavelength range.]
Interní kód: APL-2022-19 ; 2022
Technické parametry: Hyperspektrální kamera s vysokým rozlišením a omezeným rozsahem vlnových délek. Spektrální rozlišení 0,1 nm. Rozsah měřeného spektrálního pásma 120 nm. Zobrazující spektrometr typu push-broom.
Ekonomické parametry: Prototyp realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40455
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: hyperspectral imaging * push-broom spectrometer
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337899 - 5.0499077 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šilhan, Lukáš - Šerý, Mojmír - Maňka, Tadeáš
Spektroskopický systém pro systém hlubokého reaktivního leptání.
[Spectroscopic system for deep reactive ion etching system.]
Interní kód: APL-2018-16 ; 2018
Technické parametry: Měřící systém slouží pro měření spektrální odezvy substrátu v systému hlubokého iontového reaktivního leptání. Systém je vybaven multimodovým optickým vláknem pro sběr signálu z plazmové komory, precizní optomechanickou částí pro rozklad signálu do spektrální oblasti. K detekci signálu je použit citlivý řádkový senzor. Ke zpracování měřených dat je využita mikroprocesorová jednotka s USB připojením ovládána programem v jazyce Python. Konstrukce je složena z tříosých kinematických držáků optických komponent (kolimátoru, koutových odražečů, děliče svazku a detekční jednotky). Nastavení optomechanických komponent je provedeno kinematickými závěsy s precizním nastavením. Pro minimalizaci teplotní roztažnosti je celá sestava vyrobena z duralové slitiny.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Lukáš Šilhan, silhan@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: DRIE * spectroscopy
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291360 - 6.0499076 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír
Úprava držáku pro galvanické pokovování mikroelektromechanických systémů.
[Modification of holder for electroplating of microelectromechanical systems.]
Interní kód: APL-2018-15 ; 2018
Technické parametry: Funkční vzorek je určen pro galvanické pokovování vodivých vzorků s rozměry 36x36 mm. Většina komponent je vyrobena z ABS plastu na 3D tiskárně. Aparatura je vybavena držákem substrátu sloužícím pro pokovení pouze jedné strany vzorku. Pro připojení elektrického napětí slouží soustava čtyř pružin, které přitlačují vzorek k elektrodě a zajištují tím elektrický kontakt.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electroplating holder * electroplating of silicon wafers
Obor OECD: Mechanical engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291359 - 7.0482541 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír
Aparatura pro mokré leptání Si substrátů.
[System for wet etching of Si substrates.]
Interní kód: APL-2017-09 ; 2017
Technické parametry: Funkční vzorek je určen pro mokré leptání Si substrátů. Většina komponent je vyrobena z teflonu, kvůli jeho vysoké chemické odolnosti. Aparatura je vybavena dvěma držáky substrátu. Jeden slouží pro leptání pouze jedné strany vzorku a druhý umožňuje leptat z obou stran. Pro dosažení dobré homogenity leptání je systém vybaven elektrickým pohonem vzorku. Aby nedošlo k nechtěnému poškození elektromotoru nebo vzorku, točivý moment přenáší třecí spojka. Řízení systému zajišťuje ovládací panel, který umožňuje regulovat otáčky elektromotoru a měřit teplotu leptací lázně v reálném čase.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV10618; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Wet etching * KOH etching of Si
Obor OECD: Polymer science
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277968 - 8.0482540 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír
Interferometrický odměřovací systém pro systém hlubokého reaktivního leptání.
[Interferometric measuring system for deep reactive ion etching system.]
Interní kód: APL-2017-08 ; 2017
Technické parametry: Systém slouží k přesnému měření hloubky leptu v systému hlubokého reaktivního leptání. Je vybaven náhledovým kamerovým systémem umožňující kontrolu procesu výroby mikrostruktur. K odměřování hloubky leptu je použit He-Ne laser o vlnové délce 543 nm. Pro detekci signálu je použita metoda homodynní detekce. Konstrukce je složena z tříosých kinematických držáků optických komponent (kolimátoru, koutových odražečů, děliče svazku a detekční jednotky). Nastavení opto-mechanických komponent je provedeno kinematickými závěsy s precizním nastavením. Pro minimalizaci teplotní roztažnosti je celá sestava vyrobena z duralové slitiny.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: DRIE * laser interferometry * Michelson interferometer
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277967