Výsledky vyhledávání
- 1.0540718 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Bodnár, M. - Moravec, V. - Vrňata, M. - Fitl, P. - Lančok, Ján - Novotný, Michal
Senzor pro detekci ozonu - KBIO3.
[Gas sensor for Ozone detection - KBIO3.]
Interní kód: Funkční vzorek - Senzor pro detekci ozonu - KBIO3 ; 2020
Technické parametry: senzor koncentrace ozonu ve vzduchu: - koncentrační rozsah: 1 ppb až 1000 ppb - oblast pracovních teplot: -20°C až 60°C - pracovní teplota: 100°C
Ekonomické parametry: Senzor bude zařazen do portofila produktů firmy Tesla Blatná a.s.
Grant CEP: GA MPO FV20350
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ozone * gas sensor * pollution
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318334 - 2.0500350 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, P. - Vrňata, M. - Bodnár, M. - Lančok, Ján
Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem.
[Deposition system for preparation of thin films by RF discharge plasma polymerization.]
Interní kód: Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak 10E-3 Pa, pracovní tlak 5 Pa, RF výkon 20 W, RF frekvence 13,56 MHz
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * magnetron sputtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292441 - 3.0500349 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Lančok, Ján - Novotný, Michal - More Chevalier, Joris - Fitl, P. - Myslík, V. - Vrňata, M. - Vlček, J. - Bodnár, M.
Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace.
[Apparatus for deposition of homogenous sensor active layers by plasma polymerization.]
Interní kód: Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace ; 2018
Technické parametry: Pracovní tlak 10E-3Pa, teplota odpařování organického prekurzoru v rozsahu 30 až 600°C, rozměr homogenně pokryté oblasti aktivní vrstvou min 50x50 mm, RF výkon pro rozklad a ionizaci par 5 až 100W.
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * vacuum evaporation
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292439