Výsledky vyhledávání
- 1.0466215 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému.
[Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 15.11.2016. Číslo vzoru: 30018
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264578