Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
    Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
     
     
  2. 2.
    0478403 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír
    Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy.
    [Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer.]
    Interní kód: APL-2017-02 ; 2017
    Technické parametry: Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating
    Obor OECD: Materials engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0274516
     
     
  3. 3.
    0470911 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Pilát, Zdeněk - Ježek, Jan - Zemánek, Pavel - Trtílek, M.
    Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám.
    [Technology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules.]
    Interní kód: APL-2016-16 ; 2016
    Technické parametry: Technologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR TA03010642; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: microfluidic chips * PDMS
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268421
     
     
  4. 4.
    0470129 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Dvořáček, F. - Dvořáčková, Š. - Buchta, Zdeněk - Čížek, Martin - Šarbort, Martin - Řeřucha, Šimon - Hucl, Václav - Pikálek, Tomáš - Mikel, Břetislav - Lazar, Josef - Číp, Ondřej
    Kalibrace koncových měrek bezkontaktní metodou.
    [System for contactless mass calibration of gauge blocks.]
    Interní kód: APL-2016-15 ; 2016
    Technické parametry: Poloprovoz využívá bezkontaktní metodu měření délky měrky dle patentu ČR 302948 a dále zapojení nezbytných zařízení a přístrojů do měřicího procesu včetně požadavku na přípravu koncové měrky k vlastnímu měření.
    Ekonomické parametry: Je uzavřená Smlouva o využití výsledku výzkumu a vývoje pro projekt TA03010663 a poloprovoz bude probíhat v rámci kalibrační laboratoře Českého metrologického institutu (IČ 00177016) (viz Osvědčení o akreditaci), kontakt: Ing. Ondřej Číp, Ph.D., ocip@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TA03010663; GA MŠk(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: Gauge block * double ended interferometer * mass calibration * length metrology
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0267856
     
     
  5. 5.
    0468828 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Šerý, Mojmír
    Hyperspektrální spektrograf.
    [Hyperspectral spectrograph.]
    Interní kód: APL-2016-13 ; 2016
    Technické parametry: Hyperspektrální spektrograf je složen ze vstupní štěrbiny, konvexní difrakční mřížky a dvou konkávních zrcadel. Elektromagnetické záření vystupující ze vstupní štěrbiny je zkolimováno prvním konkávním zrcadlem na konvexní difrakční mřížku kde dojde k úhlovému rozložení elektromagnetického spektra v jednom směru. Ve směru kolmém se zachovává obrazová informace. Elektromagnetické záření je následně zobrazeno druhým konkávním zrcadlem do výstupní roviny. Nastavení optických prvků se provádí s pomocí šroubů s jemným stoupáním. Všechny optické komponenty jsou uloženy v kompaktním mechanice z kvalitního a rozměrově stabilního materiálu.
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie hyperspektrálního spektrografu, na jehož základě jsou vyráběny Hyperspektrální kamery firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) dle smlouvy o využití know-how. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: hyperspectral imaging * diffraction grating
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266641