Výsledky vyhledávání

0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
Příprava TFE W(100) ZrO katod.
[TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457

0470911 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Pilát, Zdeněk - Ježek, Jan - Zemánek, Pavel - Trtílek, M.
Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám.
[Technology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules.]
Interní kód: APL-2016-16 ; 2016
Technické parametry: Technologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan)), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TA03010642; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: microfluidic chips * PDMS
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0268421

0468828 - ÚPT 2017 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Šerý, Mojmír
Hyperspektrální spektrograf.
[Hyperspectral spectrograph.]
Interní kód: APL-2016-13 ; 2016
Technické parametry: Hyperspektrální spektrograf je složen ze vstupní štěrbiny, konvexní difrakční mřížky a dvou konkávních zrcadel. Elektromagnetické záření vystupující ze vstupní štěrbiny je zkolimováno prvním konkávním zrcadlem na konvexní difrakční mřížku kde dojde k úhlovému rozložení elektromagnetického spektra v jednom směru. Ve směru kolmém se zachovává obrazová informace. Elektromagnetické záření je následně zobrazeno druhým konkávním zrcadlem do výstupní roviny. Nastavení optických prvků se provádí s pomocí šroubů s jemným stoupáním. Všechny optické komponenty jsou uloženy v kompaktním mechanice z kvalitního a rozměrově stabilního materiálu.
Ekonomické parametry: Ověřená technologie hyperspektrálního spektrografu, na jehož základě jsou vyráběny Hyperspektrální kamery firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) dle smlouvy o využití know-how. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: hyperspectral imaging * diffraction grating
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266641