Výsledky vyhledávání
- 1.0518972 - FZÚ 2020 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Tvarog, Drahoslav - Jetmar, Tomáš
Funkční 3D vzorek s ochranným antiabrazivním a antikorozním povlakem vhodným pro vysoké mechanické a tepelné zatížení.
[Functional sample of 3D part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVG5/FZU/2019 ; 2019
Technické parametry: Délka povlakované trubice 120 mm, vnitřní průměr min. 7,6 mm, maximální tlušťka povlaku 30 mikrometrů. Max. počet vrstev 12, adhezní vrstva Cr, tvrdý povlak CrN.
Ekonomické parametry: Nasazení v průmyslu a nahrazení galvanického pokovování umožní úsporu nákladů na likvidaci ekologicky závadných elektrolytů. Dále plazmové povlaky zajistí vyšší reprodukovatelnost povlaků a větší konkurenceschopnost daného výrobku.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * coatings * thin films * chromium
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303972 - 2.0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292132 - 3.0485925 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
[Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842 - 4.0390204 - FZÚ 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy.
[Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes.]
Interní kód: FS3/FZÚ/2012 ; 2012
Technické parametry: Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
Ekonomické parametry: V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: heating flux * plasma * ion flux * deposition * thin films * deposition rate
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219081