Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0575662 - ÚPT 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
    Technologie výroby nelineárních fázových masek.
    [The manufacturing process of apodized phase masks.]
    Interní kód: APL-2023-03 ; 2023
    Technické parametry: Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345419
     
     
  2. 2.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
    Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.