Výsledky vyhledávání
- 1.0566369 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Kombinované plazmatické systémy pro povlakování vnitřních povrchů trubic vícevrstvou ochranou vrstvou s optimalizovanou adhezí k povrchu.
[Combined plasma systems for coating the inner surfaces of tubes with a multi-layer protective layer with optimized adhesion to the surface.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2022 ; 2021
Technické parametry: Maximální povlakované trubice: 250 mm Minimální vnitřní průměr povlakované trubice: 5,5 mm Princip depozice: PVD, pulzní PVD, rozprašování duté katody (trysky), rozprašování drátu kruhového průměru.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337989 - 2.0550774 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Optimalizované multivrstvé plazmatické povlaky vnitřních prostor dlouhých trubic.
[Optimized multilayer plasma coatings of interiors of long tubes.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2021 ; 2021
Technické parametry: Ohřev povlakované trubice: výkon: 4x120W lineární halogenová žárovka max teplota: 500 st C b) RF výboj - výkon: dle podmínek 50 – 200 W - frekvence: 13.56 MHz - indukční oddělení: feritový transformátor, rezonanční vzduchový transformátor c) HiPPS výboj - pulzní modulace: 1000 Hz opakovací frekvence, 100 μs šířka pulzu - střední dc výkon: 150 W (při napětí v pulzu cca – 330 V) d) depoziční proces - tlak:1 Pa (v depoziční komoře) - průtok plynu: cca 100 sccm (celkový průtok) - pracovní plyn:směs argonu a dusíku Ar/N2 = 100/0 – 50/50 - teplota katody: 800 – 1250 0C - depozit: Cr/CrN/CrN Maximální tvrdost povlaku: 11.5 GPa Maximání mechanické zatížení (scratch test): 450 mN.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * multilayers * hard coating * hollow cathode discharge * hardness * deposition
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326097 - 3.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technické parametry: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Ekonomické parametry: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 4.0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681 - 5.0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin
Vícetryskový PVD depoziční systém.
[Multijet PVD deposition system.]
Interní kód: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
Technické parametry: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263763 - 6.0390208 - FZÚ 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Lukašík, P. - Piják, A. - Dolák, J. - Martinek, P. - Pitrun, J. - Rek, Š. - Konečný, L. - Mareš, G. - Štepánek, J. - Jakeš, J. - Křenek, Z. - Joštic, M. - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Babchenko, Oleg - Kromka, Alexander - Potocký, Štěpán
Automatizovaný systém kontroly průtoků pracovních plynů v MW plazmovém systému PLASMASTR02 s proudícími plazmovými kanály.
[Automatic system of mass flow control of working gasses in MW plasma system PLASMASTR02 with plasma jet channels.]
Interní kód: PST2/FZÚ-SVCS/2012 ; 2012
Technické parametry: Počet regulačních větví 6. Rozsah průtokoměrů Ar 200 sccm. Rozsah průtokoměrů O2 200 sccm. Rozsah průtokoměrů H2 500 sccm. Rozsah průtokoměrů CO2 500 sccm. Řídící systém MTS04 - Digital 6xIn/8xOut. Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: PST2/FZÚ-SVCS/2012.
Ekonomické parametry: Bude použitý v realizovaném systému jako výstupu projektu TAČR, který bude pak komerčně vyráběný
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: microwave * surfatron * thin films * vacuum reactor * plasma * deposition * plasma jet * flowmeter
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219084 - 7.0390204 - FZÚ 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy.
[Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes.]
Interní kód: FS3/FZÚ/2012 ; 2012
Technické parametry: Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
Ekonomické parametry: V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: heating flux * plasma * ion flux * deposition * thin films * deposition rate
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219081 - 8.0371302 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Churpita, Olexandr - Čada, Martin - Jastrabík, Lubomír - Olejníček, Jiří - Babchenko, Oleg - Kromka, Alexander - Potocký, Štěpán - Lukašík, P. - Piják, A. - Dolák, J. - Martinek, P. - Pitrun, J. - Rek, Š. - Konečný, L. - Mareš, G. - Štepánek, J. - Jakeš, J. - Křenek, Z. - Joštic, M.
Hybridní a modulární mikrovlnný plazmatický depoziční systém s povrchovou vlnou a uspořádáním plazmatických kanálů PLASMASTR01.
[Hybrid and modular microwave plasmatic deposition system with surface wave and arranged plasma jets PLASMASTR01.]
Interní kód: PST1/FZÚ-SVCS/2011 ; 2011
Technické parametry: Vnější průměr použité trubky surfatronu: 8 mm; Mikrovlnný zdroj: Sairem GMP150 max. výkon 1200W; Surfatron: Sairem SURFATRON 80 max. výkon 300W; Frekvenční pásmo: MW 2450 MHz; Pulzní modulace: 3Hz-1kH
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: microwave * surfatron * thin films * plasma * deposition * plasma jet * surface wave
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204848 - 9.0371285 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
[Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
Interní kód: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
Technické parametry: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204834