Výsledky vyhledávání
- 1.0436748 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr
Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev.
[Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films.]
Interní kód: MFSH2014 ; 2014
Technické parametry: Rotační rychlost: 0-200 RPM; vakuová těsnost: 1x10-10 mbar l s-1; maximální dosažená teplota: 400 °C; maximální příkon vytápění: 180 W; maximální amplituda RF předpětí při frekvenci 13.56 MHz: 1000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * magnetron * reactive sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240432 - 2.0424549 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu.
[An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma.]
Interní kód: IONEU2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá aparatura umožňuje měřit tok (depoziční rychlost) neutrálních nebo nabitých částic na substrát. K tomuto účelu je využito QCM čidlo s možností přivedení předpětí opatřené vhodně zvoleným magneickým polem na vstupu QCM čidla
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: deposition rate * neutral/ion flux ratio * magnetic field * QCM sensor
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230613 - 3.0424548 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Olejníček, Jiří - Jastrabík, Lubomír
Měřicí systém pro mikrovlnnou diagnostiku plazmatu.
[Measuring system for microwave diagnostic of the plasma.]
Interní kód: TRMW2013 ; 2013
Technické parametry: Vyvinutá řídící jednotka umožňuje časově rozlišená měření a s opakovaným měřením výrazně potlačuje šum, rychlost a rozsah měření je dána především komerčním generátorem do 20 GHz a mikrovlnnými detektory
Ekonomické parametry: Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave diagnostics * plasma * measuring system * plasma processes
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230611 - 4.0424534 - FZÚ 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří
Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu.
[Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems.]
Interní kód: DPCS/FZÚ/2013 ; 2013
Technické parametry: Rychlost 85 KSPS, přesnost měření je 0,024%, vstupní napětí +- 10 V
Ekonomické parametry: V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli automatizovaný systém pro monitorování a řízení procesu depozice tenkých vrstev v plazmatu. Laboratorní zařízení je nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: pohyb substrátu * PC řízený
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0230598 - 5.0371285 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
[Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
Interní kód: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
Technické parametry: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204834