Výsledky vyhledávání
- 1.0438450 - FZÚ 2015 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Rebl, H. - Zietz, C. - Arndt, K. - Bogdanowicz, R. - Nebe, B. - Bader, R. - Podbielski, A. - Hubička, Zdeněk - Hippler, R.
Deposition of thin titanium-copper films with antimicrobial effect by advanced magnetron sputtering methods.
Materials Science & Engineering C-Materials for Biological Applications. Roč. 31, č. 7 (2011), s. 1512-1519. ISSN 0928-4931. E-ISSN 1873-0191
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA MŠMT(CZ) 1M06002
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
Klíčová slova: implant coating * titanium-copper film * pulsed magnetron sputtering
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.686, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241858 - 2.0427030 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Kšírová, Petra - Zietz, C. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Bader, R. - Tichý, M. - Helm, Ch.A. - Hippler, R.
Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti–Cu films with controlledcopper release.
Thin Solid Films. Roč. 550, JAN (2014), s. 389-3947. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: titanium, * copper * thin films * Ti–Cu films * high power impulse magnetron sputtering * X-ray diffraction
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.759, rok: 2014
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013018166
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232643 - 3.0421856 - FZÚ 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Čada, Martin - Adámek, Petr - Straňák, V. - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Hippler, R.
Angle-resolved investigation of ion dynamics in high power impulse magnetron sputtering deposition system.
Thin Solid Films. Roč. 549, DEC (2013), s. 177-183. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA MŠMT LD12002
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * titania * Katsumata probe * ion sensitive probe * IVDF * angular resolution
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.867, rok: 2013
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013011127
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0228107 - 4.0393045 - FZÚ 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Wulff, H. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Deposition of rutile (TiO2) with preferred orientation by assisted high power impulse magnetron sputtering.
Surface and Coatings Technology. Roč. 222, MAY (2013), s. 112-117. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA MŠMT LD12002
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * ECWR * TiO2 * Rutile * Anatase * IDF
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.199, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0221796 - 5.0391437 - FZÚ 2014 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Drache, S. - Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Time-resolved Langmuir probe investigation of hybrid high power impulse magnetron sputtering discharges.
Vacuum. Roč. 90, SI (2013), s. 176-181. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: dual magnetron * HiPIMS * MF-discharge * Langmuir probe * EEPF
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.426, rok: 2013
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0042207X12001388
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0220478 - 6.0386383 - FZÚ 2013 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Bogdanowicz, R. - Tichý, M. - Hippler, R.
Plasma diagnostics of low pressure high power impulse magnetron sputtering assisted by electron cyclotron wave resonance plasma.
Journal of Applied Physics. Roč. 112, č. 9 (2012), "093305-1"-"093305-9". ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: Langmuir probes * mass spectroscopy * plasma density * plasma diagnostics * plasma materials processing * plasma pressure * plasma radiofrequency heating
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.210, rok: 2012
http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v112/i9/p093305_s1
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215686 - 7.0377251 - FZÚ 2013 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Herrendorf, A.-P. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tichý, M. - Hippler, R.
Highly ionized physical vapor deposition plasma source working at very low pressure.
Applied Physics Letters. Roč. 100, č. 14 (2012), "141604-1"-"141604-3". ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GAP108/12/1941
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetron * ECWR * low-pressure * sputtering * plasma diagnostics
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 3.794, rok: 2012
http://dx.doi.org/10.1063/1.3699229
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0209459 - 8.0377074 - FZÚ 2013 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Drache, S. - Bogdanowicz, R. - Wulff, H. - Herrendorf, A.-P. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M. - Hippler, R.
Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering.
Surface and Coatings Technology. Roč. 206, 11-12 (2012), s. 2801-2809. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
Grant ostatní: MŠMT(CZ) CZ.1.05/2.1.00/03.0058
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: dual magnetron * HiPIMS * MF discharge * Ti-Cu films * IVDF * XRD
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.941, rok: 2012
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0209328 - 9.0373839 - FZÚ 2012 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Wulff, H. - Bogdanowicz, R. - Drache, S. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M. - Hippler, R.
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges.
European Physical Journal D. Roč. 64, 2-3 (2011), 427-435. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GP202/09/P159; GA AV ČR KAN301370701; GA MŠMT(CZ) 1M06002
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100100915
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: dual magnetron * Ti-Cu film * HiPIMS * diagnostics * ion energy
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.476, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0206899 - 10.0373838 - FZÚ 2012 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Bogdanowicz, R. - Drache, S. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hippler, R.
Dynamic study of dual high-power impulse magnetron sputtering discharge by optical emission imaging.
IEEE Transactions on Plasma Science. Roč. 39, č. 11 (2011), 2454-2455. ISSN 0093-3813. E-ISSN 1939-9375
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100100915
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetic confinement * plasma properties * plasma sources
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.174, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0206898