Výsledky vyhledávání
- 1.0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348 - 2.0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344 - 3.0489644 - ÚFP 2019 RIV DK eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284055 - 4.0487414 - FZÚ 2019 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I. - Sobierajski, R. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Milov, I. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R.A. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0283325 - 5.0359322 - FZÚ 2012 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Sobierajski, R. - Bruijn, S. - Khorsand, A.R. - Louis, E. - van de Kruijs, R.W.E. - Burian, Tomáš - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Gleeson, A. - Grzonka, J. - Gullikson, E.M. - Hájková, Věra - Hau-Riege, S. - Juha, Libor - Jurek, M. - Klinger, D. - Krzywinski, J. - London, R. - Pelka, J. B. - Płociński, T. - Rasiński, M. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Vyšín, Luděk - Wabnitz, H. - Bijkerk, F.
Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources.
Optics Express. Roč. 19, č. 1 (2011), s. 193-205. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100801; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: laser damage * thermal effects * multilayers * optical design and fabrication * free-electron lasers
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.587, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0197124 - 6.0342469 - FZÚ 2011 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Khorsand, A.R. - Sobierajski, R. - Louis, E. - Bruijn, S. - van Hattum, E.D. - van de Kruijs, R.W.E. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Burian, Tomáš - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Jastrow, U. - Stojanovic, N. - Toleikis, S. - Wabnitz, H. - Tiedtke, K. - Sokolowski-Tinten, K. - Shymanovich, U. - Krzywinski, J. - Hau-Riege, S. - London, R. - Gleeson, A. - Gullikson, E.M. - Bijkerk, F.
Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure.
Optics Express. Roč. 18, č. 2 (2010), 700-712. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: laser damage * thermal effects * multilayers * optical design and fabrication * free-electron lasers
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.749, rok: 2010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0185200