Výsledky vyhledávání
- 1.0580361 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Materna Mikmeková, Eliška - Fořt, Tomáš - Souček, P.
Prototyp optického prvku č. 1 s povrchovou úpravou.
[Prototype of optical element #1 with surface treatment.]
Interní kód: APL-2023-08 ; 2023
Technické parametry: POLYETERETERKETON (PEEK) byl použit na výrobu optické části tubusu elektronového mikroskopu. Optický prvek byl vylepšen nanesením tenké kovové vrstvy (Al, Cr, W) pomocí magnetronového naprašování.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu slouží k výzkumným účelům. Funkční vzorek byl realizován pro konkrétní zařízení, a proto nedochází k přímému prodeji vzorku. Finanční vyčíslení případné prodejní ceny vychází z nákladů na vývoj, materiál, výrobu a přiměřený zisk. Kontakt: Mgr. Eliška Materna Mikmeková, Ph.D., MBA, eliska@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: optical elements * PEEK * SEM * magnetron sputtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349151 - 2.0566648 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Fořt, Tomáš - Helán, R. - Urban, F.
Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky.
[Apodized phase mask for the manufacture of fiber Bragg grating filter with defined transmission spectrum.]
Interní kód: APL-2022-30 ; 2022
Technické parametry: Fázová difrakční maska s rozlišením periody 0,1 nm připravená v materiálu fused silica naladěná pro expozici světlem s vlnovou délkou 248 nm a přípravu nelineárního vláknového filtru.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * diffraction grating * electron-beam lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337962 - 3.0566464 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel - Fořt, Tomáš
Difraktivní mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce.
[Diffractive beam splitter with high precision of angular distribution.]
Interní kód: APL-2022-08 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící jako mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: beam splitter * diffractive optical element * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337789 - 4.0536583 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Fořt, Tomáš - Matějka, Milan - Materna Mikmeková, Eliška - Radlička, Tomáš - Řiháček, Tomáš - Sháněl, O. - Schneider, M. - Mareček, D.
Fázová destička pro použití v transmisní elektronové mikroskopii.
[Phase plate for transmission electron microscopy.]
Interní kód: APL-2020-07 ; 2020
Technické parametry: Křemíkový čip (tloušťka 200 µm) nesoucí tenkou nitridovou membránu (tloušťka ⁓70 nm). Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Čip je upevněný na platinové clonce o průměru 3 mm. Celý vzorek je pokoven tenkou vrstvou molybdenu (⁓3 nm).
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers * e-beam lithography
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314347 - 5.0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
[Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2020-04 ; 2020
Technické parametry: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314036 - 6.0535780 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Stoklasa, B. - Venos, Š. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Pokorný, Pavel
Difraktivní optický element generující besselovské svazky s potlačením distribuce energie do vedlejších minim.
[Diffractive optical element generating Bessel beams with suppression of energy distribution to lateral minima.]
Interní kód: APL-2020-03 ; 2020
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící ke korekci vstupního Besselovského svazku
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Bessel beam reactive ion etching * diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313713 - 7.0423138 - ÚPT 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Fořt, Tomáš - Dupák, Libor - Sobota, Jaroslav - Neděla, Vilém - Kapounek, Petr - Dupák, Jan - Krejčí, J.
Replika nové naprašovací aparatury s vylepšenou funkčností pro depozici B-DLC vrstev.
[New replica of sputtering equipment with improved functionality for depositing B-DLC layers.]
Interní kód: APL-2013-13 ; 2013
Technické parametry: Aparatura s možností připojení více typů plynů a několika terčů s cílem vytvářet borem, popř. fluorem, dopované DLC vrstvy. Aparatura byla konstruována pro průmyslové použití.
Ekonomické parametry: Nová naprašovačka vyvinutá v rámci řešení grantu, která umožňuje nanášení DLC vrstev. Senzory opatřené těmito vrstvami by měly zvýšit obrat firmy o 10 000 EUR-ročně. Výsledek využije příjemce projektu. Kontakt: Ing. Vilém Neděla, PhD., vilem@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/118
Klíčová slova: electrochemical sensors * DLC * B-DLC
Kód oboru RIV: JB - Senzory, čidla, měření a regulace
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0229220 - 8.0423126 - ÚPT 2014 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Fořt, Tomáš - Kučerová, R. - Neděla, Vilém - Krejčí, J.
Funkční vzorek elektrochemických senzorů s deponovanou B-DLC vrstvou tlustou 885nm a obsahem boru 24hmotnostních procent.
[Functional samples of electrochemical sensors with deposited B-DLC layer (thickness 885nm contained 24 weight percent of boron).]
Interní kód: APL-2013-01 ; 2013
Technické parametry: Jedná se jeden z finálních výsledků projektu, u něhož byla naměřena tloušťka B-DLC vrstvy 885nm a metodou energiově disperzní prvkové analýzy byl prokázán obsah bóru ve vrstvě kolem 24 hmotnostních procent.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek nutný pro další vývoj, který byl realizovaný při řešení grantu. Nový typ senzoru, cena 5 - 10 EUR/kus. Předpokládaná výroba 100 – 10 000 Ks/ rok. V nejbližší době se předpokládá náběh výroby v cca 100 Ks/rok. Výsledek využije příjemce projektu. Kontakt: Ing. Vilém Neděla, PhD., vilem@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/118
Klíčová slova: electrochemical sensors * DLC * B-DLC
Kód oboru RIV: JB - Senzory, čidla, měření a regulace
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0229232 - 9.0387557 - ÚPT 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Fořt, Tomáš - Sobota, Jaroslav - Neděla, Vilém - Dupák, Libor - Kapounek, Petr - Dupák, Jan
Nová naprašovací aparatura pro depozici B-DLC vrstev.
[New sputtering equipment for depositing B-DLC layers.]
Interní kód: UPT 2012/22 ; 2012
Technické parametry: Byl realizován prototyp nová naprašovací aparatury s možností připojení více typů plynů a několika terčů s cílem vytvářet borem, popř. fluorem, dopované DLC vrstvy.
Ekonomické parametry: Prototyp realizovaný v rámci řešení grantu a mnohanásobně ověřený při výrobě senzorů. Předpokládá se průmyslové využití.
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electrochemical sensors * DLC * B-DLC
Kód oboru RIV: JB - Senzory, čidla, měření a regulace
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0216745 - 10.0387556 - ÚPT 2013 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Fořt, Tomáš - Kučerová, R. - Plička, R. - Neděla, Vilém - Rek, Antonín - Tihlaříková, Eva - Krejčí, J.
Funkční vzorek elektrochemického senzoru s pracovní elektrodou z různých kovů deponovanou DLC vrstvou a metodou termokomprese.
[Functional sample of electrochemical sensor with metal working electrode deposited with DLC layer and by thermo-compression.]
Interní kód: UPT 2012/09 ; 2012
Technické parametry: Senzor typu AC1, jehož pracovní elektroda je tvořena z Ni, Cu, Au, Pt folie čistoty 99.9 %. Folie je na povrch senzoru upevněna termokompresí. Termokompresní upevnění usnadňuje proces leštění. Rozměry 7.26 X 25.4 X 0.6mm. Rovinnost povrchu senzoru < I mikrometr, drsnost < 1 mikrometr. Senzor je vhodný pro detekci aminokyselin. Je připraven pro nanesení extrémně tenkých vrstev DLC a pro vytváření nanostruktur.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný v rámci řešení grantu. Nový typ senzoru cena 5 - 10 EUR/kus. Předpokládaná výroba 100 – 10 000 Ks/ rok. V nejbližší době se předpokládá náběh výroby v cca 100 Ks/rok.
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electrochemical sensors * DLC * B-DLC
Kód oboru RIV: JB - Senzory, čidla, měření a regulace
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0216744