Výsledky vyhledávání
- 1.0390588 - FZÚ 2013 RIV CN eng A - Abstrakt
Novotný, Michal - Bulíř, Jiří - Lančok, Ján - Pokorný, P. - Piksová, K. - Fekete, Ladislav - Musil, Jindřich - Čekada, M.
In-situ monitoring of the influence of inert gases (Ne, Ar, Kr, Xe) on plasma properties and the growth of magnetron sputtered nanostructured silver thin film.
The 8th Asian - European International Conference on Plasma Surface Engineering. AEPSE 2011. Dalian: AJC PSE, EJC PISE, 2011 - (Lei, M.). 216 O-101
[AEPSE 2011. The 8th Asian - European International Conference on Plasma Surface Engineering. 19.09.2011-22.09.2011, Dalian]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP108/11/1298; GA ČR(CZ) GAP108/11/0958; GA MŠMT(CZ) MEB091125; GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: silver * magnetron sputtering * in-situ monitoring * plasma characterization
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219453 - 2.0364265 - FZÚ 2012 FR eng A - Abstrakt
Novotný, Michal - Bulíř, Jiří - Lančok, Ján - Connolly, J. - McCarthy, E. - Krishnamurthy, S. - Mosnier, J.-P.
Optical and structural properties of ultrathin ZnO films prepared by PLD.
E-MRS 2010 Spring R: Laser processing and diagnostics for micro and nano applications. Strasbourg: EMRS, 2010. 15 RPII27.
[E-MRS 2010 Spring: Laser processing and diagnostics for micro and nano applications. 07.06.2010-11.06.2010, Strasbourg]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100729; GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: ZnO ultra thin films * Pulsed Laser Deposition sapphire * MgO * fused silica
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0199790 - 3.0359689 - FZÚ 2012 DE eng A - Abstrakt
Novotný, Michal - Bulíř, Jiří - Pokorný, Petr - Lančok, Ján
Plasma characterization of RF magnetron sputtering of silver in Ne, Ar, Kr and Xe discharges.
Twelfth International Conference on Plasma Surface Engineering. Dresden: Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS), 2010. s. 508. ISBN N.
[International Conference on Plasma Surface Engineering /12./. 13.09.2010-17.09.2010, Garmisch-Partenkirchen]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100718; GA AV ČR KAN400100653; GA ČR GP202/09/P324
Grant ostatní: VAKUUM PRAHA(CZ) VAKUUM PRAHA (2010)
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetron sputtering * silver * plasma spectroscopy * optical emission spectroscopy * mass spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0197427 - 4.0351841 - FZÚ 2011 DE eng A - Abstrakt
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Pokorný, Petr - Bodnár, Michal
Study of silver grown by magnetron sputtering in reactive gas and plasma characterization of the sputtering process.
Twelfth International Conference on Plasma Surface Engineering. Dresden: Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V. (EFDS), 2010. s. 185. ISBN N.
[International Conference on Plasma Surface Engineering /12./. 13.09.2010-17.09.2010, Garmisch-Partenkirchen]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100718; GA AV ČR KAN400100653; GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: silver * magnetron sputtering * mass spectroscopy * optical emission spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0191497 - 5.0339879 - FZÚ 2010 RIV CN eng A - Abstrakt
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Najdek, D.
The monitoring and the real-time control of an ultra-thin silver layer growth.
FOC 2009 - Frontiers of optical coatings. Beijing: The Chinese Optical Society, 2009 - (Kaiser, N.). s. 14. ISBN N.
[FOC 2009 - Frontiers of optical coatings. 11.10.2009-15.10.2009, Xi An, P.R.]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100718; GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: silver * magnetron sputtering * monitoring
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0183273 - 6.0338223 - FZÚ 2010 US eng A - Abstrakt
Novotný, Michal - Bulíř, Jiří - Pokorný, Petr - Bočan, Jiří - Fitl, Přemysl - Lančok, Ján - Musil, Jindřich
Optical emission and mass spectroscopy of plasma processes in reactive DC pulsed magnetron sputtering.
[Optická emisní a hmotová spektroskopie plazmatických procesů při reaktivním DC pulzním magnetronovém naprašování.]
E-MRS 2009 Spring Meeting. Warrendale, PA: MRS, 2009. s. 14. ISBN N.
[E-MRS 2009 Spring Meeting. 08.06.2009-12.06.2009, Strasbourg]
Grant CEP: GA ČR GP202/09/P324
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: reactive pulsed magnetron sputtering * optical emission spectroscopy * mass spectroscopy * alumina
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0182059