Výsledky vyhledávání
- 1.0336007 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Cihelka, Jaroslav - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Rosmej, F.B. - Renner, Oldřich - Saksl, K. - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Galtier, E. - Schott, R. - Khorsand, A.R. - Riley, D. - Dzelzainis, T. - Nelson, A. - Lee, R. W. - Heimann, P. - Nagler, B. - Vinko, S. - Wark, J. - Whitcher, T. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Fäustlin, R. - Wabnitz, H. - Bajt, S. - Chapman, H. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. - Hau-Riege, S. - London, R.A. - Kuba, J. - Stojanovic, N. - Sokolowski-Tinten, K. - Gleeson, A.J. - Störmer, M. - Andreasson, J. - Hajdu, J. - Timneanu, N.
Optical emission spectroscopy of various materials irradiated by soft x-ray free-electron laser.
[Optická emisní spektroskopie různých materiálů ozářených rentgenovým laserem s volnými elektrony.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 73610P/1-73610P/10. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: optical emission spectroscopy * free-electron laser * atomic lines * plasma plume * warm dense matter
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/10.1117/12.822766
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180339 - 2.0335967 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Hájková, Věra - Cihelka, Jaroslav - Vyšín, Luděk - Gautier, J. - Hajdu, J. - Hau-Riege, S.P. - Jurek, M. - Krzywinski, J. - London, R.A. - Papalazarou, E. - Pelka, J. B. - Rey, G. - Sebban, S. - Sobierajski, M. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Valentin, C. - Wabnitz, H. - Zeitoun, P.
Response of molecular solids to ultra-intense femtosecond soft x-ray pulses.
[Odezva molekulárních pevných látek na ultra-intenzivní femtosekundové měkké rentgenové pulzy.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 736108/1-736108/9. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701; GA ČR GA203/06/1278
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: x-ray laser * high-order harmonics * free-electron laser * desorption * ablation * organic polymer
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/10.1117/12.822297
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180307 - 3.0335956 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Jastrow, U. - Stojanovic, N. - Toleikis, S. - Wabnitz, H. - Krzywinski, J. - Hau-Riege, S. - London, R.
Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon.
[Interakce intenzivních ultra-krátkých XUV pulzů s křemíkem.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 736107/1-736107/11. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: radiation damage * amorphization * ablation * monocrystalline silicon * soft x-ray free-electron laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/10.1117/12.822152
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180297 - 4.0089780 - FZÚ 2008 RIV NL eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Kuba, J. - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Bergh, M. - Bionta, R.M. - Caleman, C. - Chapman, H. - Hajdu, J. - Hau-Riege, S. - Jurek, M. - Koptyaev, Sergey - Krása, Josef - Krenz-Tronnier, A. - Krzywinski, J. - London, R. - Meyer-ter-Vehn, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Sokolowski-Tinten, K. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Velyhan, Andriy - Wabnitz, H. - Zastrau, U.
Ablation of organic molecular solids by focused soft X-ray free-electron laser radiation.
[Ablace organické molekulární pevné látky fokusovaným zářením rentgenového laseru na volných elektronech.]
X-Ray lasers 2006. Dordrecht: Springer-Verlag, 2007 - (Nickles, P.; Janulewicz, K.), s. 503-510. Springer proceedings in physics, 115. ISBN 978-1-4020-6017-5. ISSN 0930-8989.
[International Conference on X-ray Lasers/10./ – ICXRL 2006. Berlin (DE), 21.08.2006-25.08.2006]
Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: free-electron laser * soft X-rays * ablation * organic polymer
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0150874