Výsledky vyhledávání
- 1.0561976 - ÚFM 2025 RIV GB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Buršík, Jiří - Campbell, A. CH. - Havlíček, M. - Klapetek, P. - Kelarová, Š. - Přibyl, R. - Václavik, R. - Stupavská, M. - Buršíková, V.
Surface morphology of nanostructured plasma-polymer thin films deposited under dusty plasma conditions.
Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2315. Bristol: IOP Publishing, 2022, č. článku 012017. ISSN 1742-6588.
[IC-CMTP6 International Conference on Competitive Materials and Technology Processes and 2nd European Conference on Silicon and Silica Based Materials /6./. Miskolc-Lillafüred (HU), 04.10.2021-08.10.2021]
Institucionální podpora: RVO:68081723
Klíčová slova: Anisotropy * Dust * Plasma theory
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0334409 - 2.0435435 - ÚFM 2015 RIV CH eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Man, Jiří - Weidner, A. - Klapetek, P. - Polák, Jaroslav
Slip activity of persistent slip bands in early stages of fatigue life of austenitic 316L steel.
Materials Structure and Micromechanics of Fracture VII. Zurich: Trans Tech Publications, 2014 - (Šandera, P.), s. 785-788. Key Engineering Materials, 592-593. ISBN 978-3-03785-934-6. ISSN 1013-9826.
[MSMF 7 - International Conference on Materials Structure & Micromechanics of Fracture /7./. Brno (CZ), 01.07.2013-03.07.2013]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) ED1.1.00/02.0068; GA ČR(CZ) GAP108/10/2371; GA ČR(CZ) GA13-23652S
Institucionální podpora: RVO:68081723
Klíčová slova: 316L steel * persistent slip band * slip activity * slip irreversibility * half-cycle deformation
Kód oboru RIV: JL - Únava materiálu a lomová mechanika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0239312 - 3.0431959 - ÚPT 2015 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Hrabina, Jan - Lazar, Josef - Klapetek, P. - Valtr, M. - Číp, Ondřej - Oulehla, Jindřich - Čížek, Martin - Holá, Miroslava - Šerý, Mojmír
6-axis interferometric coordinates measurement system for nanometrology.
Photonic Instrumentation Engineering (Proceedings of Spie 8992). Bellingham: SPIE, 2014, 89920W:1-8. ISSN 0277-786X.
[Photonic Instrumentation Engineering. San Francisco (US), 02.02.2014-05.02.2014]
Grant CEP: GA ČR GPP102/11/P820; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT EE2.4.31.0016; GA TA ČR TA02010711; GA TA ČR TE01020233; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: nanometrology * AFM * nanoscale * nanopositioning interferometry
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0236468 - 4.0398396 - ÚPT 2014 RIV GB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Hrabina, Jan - Lazar, Josef - Klapetek, P. - Číp, Ondřej - Čížek, Martin - Šerý, Mojmír
Nanometrology interferometric coordinates measurement system for local probe microscopy.
Sixth International Symposium on Precision Mechanical Measurements (Proceedings of SPIE 8916). Bellingham: SPIE, 2013, 89160C: 1-7. ISSN 0277-786X.
[International Symposium on Precision Mechanical Measurements /6./. Guiyang (CN), 08.08.2013-12.08.2013]
Grant CEP: GA ČR GPP102/11/P820; GA MPO FR-TI2/705; GA TA ČR TA01010995; GA TA ČR TA02010711; GA TA ČR TE01020233; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT EE2.4.31.0016
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Microscopy * Scanning probe microscopy * Visible radiation * Atomic force microscopy * Metrology * Microscopes
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0225872 - 5.0375054 - FZÚ 2012 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Fejfar, Antonín - Klapetek, P. - Zlámal, J. - Vetushka, Aliaksi - Ledinský, Martin - Kočka, Jan
Microscopic characterizations of nanostructured silicon thin films for solar cells.
Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology. Warrendale: MRS, 2011 - (Yan, B.; Higashi, S.; Tsai, C.; Wang, Q.; Gleskova, H.), s. 313-321. MRS Symposium Proceeding, 1321. ISBN 9781605112985.
[Materials Research Society Spring Meeting. San Francisko (US), 25.04.2011-29.04.2011]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06040; GA MŠMT(CZ) MEB061012; GA AV ČR KAN400100701; GA MŠMT LC510
Grant ostatní: 7. Framework programme EU(XE) no. 240826
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: silicon * scanning probe methods * solar cells
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0207821 - 6.0371198 - ÚPT 2012 FR eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lazar, Josef - Klapetek, P. - Číp, Ondřej - Čížek, Martin - Hrabina, Jan - Šerý, Mojmír
Green Light Interferometry for Metrological SPM Positioning.
Workshop on Metrological Atomic Force Microscope Instrumentation. Paris: LNE, 2011, s. 143.
[Workshop on Metrological Atomic Force Microscope Instrumentation. Trappes (FR), 07.02.2011-09.02.2011]
Grant CEP: GA ČR GA102/09/1276; GA ČR GA102/07/1179; GA AV ČR KAN311610701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: green light interferometry * scanning probe microscopy * nanometrology
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204775 - 7.0368141 - ÚPT 2012 RIV DE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Hrabina, Jan - Lazar, Josef - Číp, Ondřej - Klapetek, P.
Nanometrology Interferometric System for Local Probe Microscopy.
Proceedings of the 20th IMEKO TC2 Symposium on Photonics in Measurement. Aachen: Shaker Verlag, 2011, s. 17-20. ISBN 978-3-8440-0058-0.
[IMEKO TC2 Symposium on Photonics in Measurement /20./. Linz (AT), 16.05.2011-18.05.2011]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06007; GA AV ČR KAN311610701; GA ČR GA102/09/1276; GA ČR GPP102/11/P820
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: atomic force microscopy (AFM) * nanometrology * nanopositioning interferometry * nanoscale * iodine cells * spectroscopy
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0202571 - 8.0367516 - ÚPT 2012 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Hrabina, Jan - Lazar, Josef - Klapetek, P. - Číp, Ondřej
AFM nanometrology interferometric system with the compensation of angle errors.
Optical Measurement Systems for Industrial Inspection VII (Proceedings of SPIE Vol. 8082). Bellingham: SPIE, 2011, 80823U:1-6. ISBN 978-0-8194-8678-3.
[Optical Measurement Systems for Industrial Inspection VII. Munich (DE), 23.05.2011-26.05.2011]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06007; GA MŠMT 2C06012; GA MPO 2A-1TP1/127; GA MPO FT-TA3/133; GA MPO 2A-3TP1/113; GA ČR GA102/09/1276; GA ČR GA102/07/1179
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: atomic force microscopy (AFM) * nanometrology * nanoscale * nanopositioning * interferometry * abbe errors
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0202169 - 9.0352199 - ÚPT 2011 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lazar, Josef - Číp, Ondřej - Čížek, Martin - Hrabina, Jan - Šerý, Mojmír - Klapetek, P.
Interferometer controlled positioning for nanometrology.
2nd International Conference NANOCON 2010. Ostrava: Tanger s.r.o, 2010, s. 287-291. ISBN 978-80-87294-19-2.
[NANOCON 2010. International Conference /2./. Olomouc (CZ), 12.10.2010-14.10.2010]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06007; GA AV ČR KAN311610701; GA ČR GA102/09/1276
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: nanometrology * interferometry * local probe microscopy * nanopositioning
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0191768 - 10.0352186 - ÚPT 2011 RIV BG eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lazar, Josef - Číp, Ondřej - Čížek, Martin - Hrabina, Jan - Šerý, Mojmír - Klapetek, P.
Multiaxis interferometric system for positioning in nanometrology.
Proceedings of the 9th WSEAS International Conference on Microelectronics, Nanoelectronics, Optoelectronic. Sofia: WSEAS EUROPMENT Press, 2010, s. 92-95. ISBN 978-954-92600-3-8. ISSN 1790-5117.
[WSEAS International Conference on Microelectronics, Nanoelectronics, Optoelectronic /9./. Catania (IT), 29.05.2010-31.10.2010]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: nanometrology * interferometry * traceability * local probe microscopy * nanopositioning
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0191759