Výsledky vyhledávání
- 1.0368401 - ÚJF 2012 eng A - Abstrakt
Muresan, M. - Zajíčková, L. - Pekařík, V. - Buršíková, V. - Ondráček, P. - Campbellová, A. - Peřina, Vratislav - Mikšová, Romana
Optimized Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition from HMDSO/O2 for Surface Protection of Metals.
[Optimized Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition from HMDSO/O2 for Surface Protection of Metals.]
2011.
[NANOCON 2011. International Conference /3./. 21.09.2011-23.09.2011, Brno]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10190503
Klíčová slova: SiO2 * Aluminium * Steel * PECVD
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0202756 - 2.0367693 - ÚJF 2012 GB eng A - Abstrakt
Trunec, D. - Zajíčková, L. - Buršíková, V. - Peřina, Vratislav - Studnička, F. - Sťahel, P. - Prysiazhnyi, V. - Mikšová, Romana
Characterization of organosilicon thin films prepared in atmospheric pressure Towsend-like discharge.
[Characterization of organosilicon thin films prepared in atmospheric pressure Towsend-like discharge.]
Abstract book, 19th International conference on Ion beam analysis. Cambridge: IOP, Institute of physics, 2009.
[19th International conference on Ion beam analysis. 07.09.2009-11.09.2009, Cambridge]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: dieletric barrier discharges * ERDA * FTIR spectroscopy * XPS
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0202277