Výsledky vyhledávání
- 1.0335967 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Hájková, Věra - Cihelka, Jaroslav - Vyšín, Luděk - Gautier, J. - Hajdu, J. - Hau-Riege, S.P. - Jurek, M. - Krzywinski, J. - London, R.A. - Papalazarou, E. - Pelka, J. B. - Rey, G. - Sebban, S. - Sobierajski, M. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Valentin, C. - Wabnitz, H. - Zeitoun, P.
Response of molecular solids to ultra-intense femtosecond soft x-ray pulses.
[Odezva molekulárních pevných látek na ultra-intenzivní femtosekundové měkké rentgenové pulzy.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 736108/1-736108/9. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701; GA ČR GA203/06/1278
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: x-ray laser * high-order harmonics * free-electron laser * desorption * ablation * organic polymer
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/10.1117/12.822297
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180307 - 2.0335795 - FZÚ 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Vyšín, Luděk - Burian, T. - Chalupský, Jaromír - Grisham, M. - Hájková, Věra - Heinbuch, S. - Jakubczak, Krzysztof - Martz, D. - Mocek, Tomáš - Pira, P. - Polan, Jiří - Rocca, J.J. - Rus, Bedřich - Sobota, Jaroslav - Juha, Libor
Characterization of the focused beam from a 10-Hz desktop capillary-discharge 46.9-nm laser.
[Charakterizace fokusovaného 46,9 nm svazku 10 Hz stolního kapilárního laseru.]
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 73610O/1-73610O/8. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
[Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAAX00100903; GA ČR GA203/06/1278; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523; CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: XUV laser * capillary-discharge laser * annular intensity distribution * beam imprint * photo-induced erosion
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/10.1117/12.822759
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180164