Výsledky vyhledávání
- 1.0346645 - ÚACH 2011 US eng A - Abstrakt
Bakardjieva, Snejana - Pola, Josef - Bakardjiev, Mario - Szatmáry, Lórant
Nanocrystals of Ag and AgO encapsulated in carbon (C) or boron nitride (BN) shells: challenge for new bio-based applications.
Biopharmaceutical Symposium SMS 2010. San Francisco: Society for Biomolecular Sciences, 2010.
[Biopharmaceutical Symposium SMS 2010. 20.05.2010-21.05.2010, San Francisco]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40320502; CEZ:AV0Z40720504
Klíčová slova: nanocrystals * magnetic properties * electronic properties
Kód oboru RIV: CA - Anorganická chemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0187615 - 2.0179682 - UFCH-W 950023 PL eng A - Abstrakt
Fajgar, Radek - Bastl, Zdeněk - Pola, Josef
Laser Induced Reaction between Silane and Difluorocarbene.
10th International Symposium on Organosilicon Chemistry. Poznaň, 1993. s. 160.
[International Symposium on Organosilicon Chemistry /10/. 15.08.1993-20.08.1993, Poznaň]
Grant CEP: GA AV ČR IA47265
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0076433 - 3.0166643 - UCHP-M 20020339 BE eng A - Abstrakt
Pola, Josef - Kupčík, Jaroslav - Jursíková, Kristýna - Bastl, Zdeněk - Šubrt, Jan - Papagiannakopoulos, P. - Díaz, L. - Magna, S.
Laser Induced Chemical Vapour Deposition of Nano-Textured Polyoxocarbosilane and Hydrido(methyl)silicone Powders.
Book of Abstracts. Leuven, 2002. s. P40.
[Joint COST Action Workgroup Meeting on Individual and Assembled Nanoparticles and Quantum Dots. 25.03.2002-27.03.2002, Leuven]
Grant CEP: GA MŠMT OC 523.60
Klíčová slova: laser chemistry * chemical vapour deposition * organosilicon polymer
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063758 - 4.0166436 - UCHP-M 20020122 JP eng A - Abstrakt
Morita, H. - Semba, K. - Pola, Josef - Šubrt, Jan - Bastl, Zdeněk
Gas-Phase Synthesis of Ultra-Fine Particles from a Gaseous Mixture of Tetraethenylgermane and Carbon Disulfide.
Book of Abstracts. Kyoto: Japanese Photochemistry Association, 2002. s. 1.
[Annual Meeting on Photochemistry. 11.09.2002-13.09.2002, Kyoto]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063560 - 5.0166435 - UCHP-M 20020121 JP eng A - Abstrakt
Pola, Josef - Semba, K. - Morita, H.
Gas- Phase Synthesis of fine Particle from Tetravinylgermanium and Carbon Disulfide.
Book of Abstracts. 2002. s. P-89.
[International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials /3./. 18.03.2002-20.03.2002, Tsukuba, Ibaraki]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063559 - 6.0165871 - UCHP-M 20000054 SK cze A - Abstrakt
Galíková, Anna - Galík, Aftanas - Pola, Josef
Srovnávací studie teplotního rozkladu polymerů obsahujících Si.
[The Comparative Study of Thermal Decomposition of Si - Containing Polymers.]
27th International Conference of Slovak Society of Chemical Engineering. Bratislava: Slovak University of Technology, 2000 - (Markoš, J.; Štefuca, J.). s. 123. ISBN 80-227-1350-3.
[International Conference of Slovak Society of Chemical Engineering /27./. 22.05.2000-26.05.2000, Tatranské Matliare]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063030 - 7.0165845 - UCHP-M 20000023 JP eng A - Abstrakt
Pola, Josef
IR Laser Decomposition of Some Organic and Organosilicon Compounds: Chemical and Material Aspects.
2nd ICRS International Symposium. 1998. s. 13.
[ICRS International Symposium /2./. 10.12.1998-12.12.1998, Sendai]
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063005 - 8.0165842 - UCHP-M 20000019 JP eng A - Abstrakt
Morita, H. - Semba, K. - Pola, Josef
Photochemical Reactivity of Trimethylsilylacetylene in UV Laser-Induced Aerosol Particle Formation with Acrolein.
3ed NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials. 2000. s. 178-179.
[NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials /3./. 15.03.2000-17.03.2000, Tsukuba]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063003 - 9.0165841 - UCHP-M 20000018 JP eng A - Abstrakt
Kupčík, Jaroslav - Tumanová, L. - Pola, Josef
IR Laser Photolysis of Some Organosilicon Compounds in the Condensed Phase.
3ed NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials. 2000. s. 176-177.
[NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials /3./. 15.03.2000-17.03.2000, Tsukuba]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063002 - 10.0165840 - UCHP-M 20000017 JP eng A - Abstrakt
Pola, Josef - Urbanová, Markéta - Galík, Aftanas - Galíková, Anna - Bastl, Zdeněk - Šubrt, Jan - Beckers, H. - Papagiannakopoulos, P.
IR Laser-Induced Decomposition of Hydridosiloxanes for CHemical Vapour Deposition of Nanostructured Hydridosilicone phases.
3rd NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials. 2000. s. 174-175.
[NIMC International Symposium on Photoreaction Control and Photofunctional Materials /3./. 15.03.2000-17.03.2000, Tsukuba]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4072921
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0063001