Výsledky vyhledávání
- 1.0336579 - ÚPT 2010 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Král, Stanislav
Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0.
[E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0.]
Interní kód: 6241 ; 2009
Technické parametry: Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
Ekonomické parametry: Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: Electron Beam Lithography with Shaped Beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180783 - 2.0047118 - ÚPT 2006 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, František
Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií.
[Technology of relief diffractive structures mode by e-beam lithography.]
Interní kód: DIFF ; 2003
Technické parametry: Technologie přípravy difraktivních struktur ve vrstvě elektronového rezistu pomocí elektronové litografie umožňuje průmyslovou přípravu.
Ekonomické parametry: Průmyslová výroba bezpečnostních hologramů v České republice.
Grant CEP: GA AV ČR(CZ) IBS2065014
Klíčová slova: E-beam lithography * diffractive structures * security holograms * CGH
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0138118