Výsledky vyhledávání
- 1.0397634 - ÚPT 2014 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Bok, Jan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Matějka, František
Modified knife-edge method for current density distribution measurements in e-beam writers.
Journal of Vacuum Science & Technology B. Roč. 31, č. 3 (2013), 031603:1-6. ISSN 1071-1023
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron-beam * intensity distribution * aperture * detector * profile * size
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 1.358, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0225249 - 2.0385754 - ÚPT 2013 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Horáček, Miroslav - Matějka, František - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Urbánek, Michal
Nano modifikace hrotu W(100)/ZrO elektronového emitéru reaktivním iontovým leptáním.
[Nano Modification of the W(100)/ZrO Electron Emitter Tip Using Reactive Ion Etching.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 57, č. 10 (2012), s. 278-280. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron emitter * reactive ion etching * electron emission * thermal field * W(100)/ZrO
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215573 - 3.0370933 - ÚPT 2012 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Urbánek, Michal
Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením.
[Nanolithography and Magnetic Field Cancellation in the Industrial Area.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 56, 11-12 (2011), s. 312-316. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA MPO FR-TI1/576
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: E-beam writer with a shaped beam * magnetic field cancelling system * electron optics column * nanolithography * nanotechnology
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204605 - 4.0336864 - ÚPT 2010 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František
Elektronová litografie.
[E-Beam Lithography.]
Zpravodaj ČVS. Roč. 16, č. 1 (2008), s. 25-34. ISSN 1213-2705
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: e-beam lithography * resist proceses
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0181000 - 5.0314356 - ÚPT 2009 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Lencová, Bohumila - Kokrhel, Svatopluk - Horáček, Miroslav - Radlička, Tomáš - Urbánek, Michal - Daněk, Lukáš
Zápis tvarovaným elektronovým svazkem.
[Writing System with Shaped Electron Beam.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 53, č. 1 (2008), s. 11-16. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: e-beam writing system * shaped electron beam * electron optics column * electron scattering * writing speed
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0164886 - 6.0205671 - UPT-D 20030053 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Škoda, D. - Lopour, F. - Kalousek, R. - Burian, D. - Spousta, J. - Šikola, T. - Matějka, František
Aplikace AFM v oblasti přípravy a studia nanostruktur.
[Application of AFM in the area of nanostructures preparation and study.]
Československý časopis pro fyziku. Roč. 53, č. 2 (2003), s. 105 - 108. ISSN 0009-0700
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: electron lithography * nanotechnology * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101284 - 7.0205619 - UPT-D 20030001 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František
Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií.
[Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 48, č. 5 (2003), s. 138 - 141. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA AV ČR IBS2065014
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: diffractive optical elements * multilevel phase DOE * electron lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101232 - 8.0205548 - UPT-D 20020098 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Lopour, F. - Kalousek, R. - Škoda, D. - Spousta, J. - Matějka, František - Šikola, T.
Application of AFM in microscopy and fabrication of micro/nanostructures.
Surface and Interface Analysis. Roč. 34, č. 1 (2002), s. 352 - 355. ISSN 0142-2421. E-ISSN 1096-9918
Grant CEP: GA MŠMT ME 334; GA MŠMT ME 480
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: AFM fabrication * local anodic oxidation * oxide nanostructures
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 1.071, rok: 2002
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101161 - 9.0205379 - UPT-D 20010018 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František - Matějková, Jiřina - Lopour, F.
Možnosti testování metriky přístrojů STM a AFM.
[The Possibilities of Testing of the Metrics of the STM and AFM Devices.]
Československý časopis pro fyziku. Roč. 5, č. 1 (2001), s. 38-42. ISSN 0009-0700
Grant CEP: GA AV ČR IBS2065014
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: experimental exploitation of STM and AFM devices * reliefs creation
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0100993 - 10.0204818 - UPT-D 960060 RIV AT eng J - Článek v odborném periodiku
Frank, Luděk - Matějka, František
Correction of the Edge Effect in Auger Electron Microscopy.
Microchimica Acta. Roč. 13, Suppl. (1996), s. 279-287. ISSN 0026-3672. E-ISSN 1436-5073
Impakt faktor: 0.892, rok: 1996
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0100438