Výsledky vyhledávání
- 1.0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
[Lithographic mask with nanometer accuracy.]
Interní kód: APL-2024-02 ; 2024
Technické parametry: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration * optical * devices * resolution
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0352542 - 2.0573585 - ÚPT 2024 RIV CZ eng L - Prototyp, funkční vzorek
Mrňa, Libor - Kolařík, Vladimír - Hopp, J. - Horák, S. - Stoklasa, B. - Úlehla, L.
Compensated telecentric F-Theta projection objective for micromachining applications at 257 nm.
Interní kód: APL-2022-38 ; 2022
Technické parametry: Výsledkem je design funkčního vzorku a funkční vzorek f-theta objektivu s difraktivním prvkem pro korekci chromatické aberace.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. RNDr. Libor Mrňa, Ph.D, mrna@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: F-theta objective * Laser micromachining * Diffractive optical element * Pulsed high-power laser * Chromatic aberration correction
Obor OECD: Mechanical engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344001 - 3.0567239 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Helán, R. - Urban, F. - Somer, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav
Vláknový spektrální filtr s nelineárně proměnnou periodou difrakční struktury.
[Fiber optical spectrum filter based on diffraction structure with variable period.]
Interní kód: APL-2022-34 ; 2022
Technické parametry: Nelineární difrakční struktura zapsaná ve standardním jednovidovém optickém vlákně. Perioda mřížky kolem 530 nm, měnící se v průběhu struktury. Délka struktury 6-18 mm. Spektrální odezva s lineárně se měnící odrazivostí v závislosti na vlnové délce.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Radek Helán, helan@proficomms.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Fiber Bragg grating * FBG nonlinear diffractive structure
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338517 - 4.0566648 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Mikel, Břetislav - Fořt, Tomáš - Helán, R. - Urban, F.
Nelineární fázová maska pro výrobu vláknových filtrů s definovanou strmostí spektrální charakteristiky.
[Apodized phase mask for the manufacture of fiber Bragg grating filter with defined transmission spectrum.]
Interní kód: APL-2022-30 ; 2022
Technické parametry: Fázová difrakční maska s rozlišením periody 0,1 nm připravená v materiálu fused silica naladěná pro expozici světlem s vlnovou délkou 248 nm a přípravu nelineárního vláknového filtru.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * diffraction grating * electron-beam lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337962 - 5.0566537 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel
Tvarovač svazku s homogenizující funkcí do tvaru TopHat.
[TopHat beam shaper.]
Interní kód: APL-2022-09 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící k homogenizaci vstupního svazku do tvaru TopHat
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: TopHat beam * diffractive optical element * e-beam lithography * wet etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337865 - 6.0566464 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel - Fořt, Tomáš
Difraktivní mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce.
[Diffractive beam splitter with high precision of angular distribution.]
Interní kód: APL-2022-08 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící jako mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: beam splitter * diffractive optical element * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337789 - 7.0564285 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Komplexní zabezpečovací známka.
[A comprehensive security stamp.]
Interní kód: APL–2022‐05 ; 2022
Technické parametry: Zabezpečovací známka v polymerním materiálu provedená zápisem pomocí elektronové litografie obsahující difrakční opticky variabilní obrazové prvky typu struktur s krátkou a velmi krátkou periodou, neperiodické struktury s variabilní hloubkou, blejzované struktury, mikročočky a další zajišťovací prvky v mikro a nano oblasti
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: security * diffraction * optically variable image element * e‐beam writer * periodic * non‐periodic * blazed * microlens
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0336066 - 8.0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586 - 9.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Interní kód: APL-2021-03 ; 2021
Technické parametry: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 10.0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
[Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
Interní kód: APL-2021-02 ; 2021
Technické parametry: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320871