Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0480747 - ÚPT 2018 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Matějka, F. - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír
    Příprava TFE W(100) ZrO katod.
    [TFE W(100) ZrO emitter preparation.]
    Interní kód: APL-2017-3 ; 2017
    Technické parametry: Katody se připravují z W(100) monokrystalu. Standardní svítivost katody je 0,5 mA/sr. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší a vysokovakuovou aparaturu
    Ekonomické parametry: Ověřená technologie vznikla při řešení grantů. Ověřenou technologii využívá příjemce jednak při zajištění provozu aparatury elektronového litografu TESLA BS600 využívaného pro řešení řady projektů, a jednak v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR(CZ) TE01020118; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: elektronová litografie * katoda * emitér * termo auto emise * W(100)
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0276457
     
     
  2. 2.
    0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
    Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
    [E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
    Interní kód: 162 410 ; 2009
    Technické parametry: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
    Ekonomické parametry: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
    Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576
    Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
    Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180792
     
     
  3. 3.
    0094701 - ÚPT 2008 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Horáček, Miroslav - Matějka, František - Kolařík, Vladimír
    Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury.
    [Electron-beam writing system for diffractive optical elements.]
    Interní kód: 65701 ; 2006
    Technické parametry: Urychlovací napětí elektronové trysky 15 kV.
    Ekonomické parametry: Elektronový litograf BS601M byl nainstalován ve firmě Optaglio v červenci roku 2006 kde nahradil obdobné zastaralé zařízení s horšími parametry.
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: electron beam writing system * diffractive optical element
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0154449