Výsledky vyhledávání
- 1.0585501 - FZÚ 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Štarman, S. - Kváča, Z. - Lančok, Ján
Ultrazvuková radiační vlnová litografie atomizačních částic.
[Ultrasonic radiation wave lithography of atomizing particles.]
Interní kód: FW01010279-V4 ; 2024
Technické parametry: Pracovní procesy pro sonolitografii ultazvukových polí
Ekonomické parametry: Ultrazvuková vlnová litografie, do 5 mil. Kč
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010279
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sonolithography * ultrasonic transducer
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0353217 - 2.0585500 - FZÚ 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Štarman, S. - Kváča, Z. - Lančok, Ján
Ultrazvuková radiační energetická litografie sonopolymerů.
[Ultrasonic radiation energy lithography of sonopolymers.]
Interní kód: FW01010279-V2 ; 2022
Technické parametry: Simulace ultrazvukových polí a stanovení jejich parametrů, stanovení parametrů piezokeramiky, výběr litografických technik a roztoků, litografie pomocí 2D stroje pro maskování a následné leptání, kontaktování vývodů pomocí ultrazvuku, měření charakteristik měniče, zapouzdření měničů
Ekonomické parametry: poloprovoz ultrazvukové litografie do 5 milionů Kč
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010279
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sonolithography * ultrasonic transducer * sonopolymer
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0353216 - 3.0540719 - FZÚ 2021 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Bodnár, M. - Moravec, V. - Vrňata, M. - Fitl, P. - Lančok, Ján - Novotný, Michal - Bulíř, Jiří
Malosériová technologie výroby senzorů pomocí plasmové depozice.
[Small series technology of sensor production using plasma deposition.]
Interní kód: Technologie senzorů na KBS4 ; 2020
Technické parametry: V rámci projektu byla realizována technologie výroby chemorezistivních senzorů plynů na keramickém substrátu Al2O3 se senzorovou vrstvou deponovanou pomocí vyvinuté aparatury pro plazmatickou depozici
Ekonomické parametry: Zavedení nových produktů do výrobního portfolia s cílem zvýšení tržeb a objemu výroby v oblasti senzorů.
Grant CEP: GA MPO FV20350
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemoresistive sensor * plasma deposition
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318335