Výsledky vyhledávání
- 1.0566369 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Kombinované plazmatické systémy pro povlakování vnitřních povrchů trubic vícevrstvou ochranou vrstvou s optimalizovanou adhezí k povrchu.
[Combined plasma systems for coating the inner surfaces of tubes with a multi-layer protective layer with optimized adhesion to the surface.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2022 ; 2021
Technické parametry: Maximální povlakované trubice: 250 mm Minimální vnitřní průměr povlakované trubice: 5,5 mm Princip depozice: PVD, pulzní PVD, rozprašování duté katody (trysky), rozprašování drátu kruhového průměru.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337989 - 2.0552174 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Mareš, P. - Dubau, M. - Vyskočil, J.
Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním.
[Source for HiPIMS technology with arc evaporation.]
Interní kód: FVHA/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: HiPIMS zdroj plazmatu–pulzní frekvence: 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu–doba pulzu: 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku–typický proud: > 10 A/cm2 Zdroj plazmového oblouku–max. napětí: 2 000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * arc * magnetron * DLC
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327317 - 3.0552141 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ECWR plazma zdroj.
[ECWR plasma source.]
Interní kód: FVMF3/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ECWR zdroje: 6 mm Vnitřní průměr vstupní části ECWR zdroje: 4 mm Vnější průměr pracovní části ECWR zdroje: 25 mm Vnitřní průměr pracovní části ECWR zdroje: 23 mm
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: electron cyclotron wave resonance * minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327313 - 4.0550774 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Straňák, V. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Čurda, P. - Hubička, Zdeněk - Čtvrtlík, R. - Hrabovský, M. - Schovánek, P.
Optimalizované multivrstvé plazmatické povlaky vnitřních prostor dlouhých trubic.
[Optimized multilayer plasma coatings of interiors of long tubes.]
Interní kód: FVNCK2/FZU-JU-UPOL/2021 ; 2021
Technické parametry: Ohřev povlakované trubice: výkon: 4x120W lineární halogenová žárovka max teplota: 500 st C b) RF výboj - výkon: dle podmínek 50 – 200 W - frekvence: 13.56 MHz - indukční oddělení: feritový transformátor, rezonanční vzduchový transformátor c) HiPPS výboj - pulzní modulace: 1000 Hz opakovací frekvence, 100 μs šířka pulzu - střední dc výkon: 150 W (při napětí v pulzu cca – 330 V) d) depoziční proces - tlak:1 Pa (v depoziční komoře) - průtok plynu: cca 100 sccm (celkový průtok) - pracovní plyn:směs argonu a dusíku Ar/N2 = 100/0 – 50/50 - teplota katody: 800 – 1250 0C - depozit: Cr/CrN/CrN Maximální tvrdost povlaku: 11.5 GPa Maximání mechanické zatížení (scratch test): 450 mN.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * multilayers * hard coating * hollow cathode discharge * hardness * deposition
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326097 - 5.0539967 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
ICP plazma zdroj.
[ICP plasma source.]
Interní kód: FVMF2/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr vstupní části ICP zdroje: 6 mm. Vnitřní průměr vstupní části ICP zdroje: 4 mm. Vnější průměr pracovní části ICP zdroje: 25 mm. Vnitřní průměr pracovní části ICP zdroje: 23 mm.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: inductively coupled plasma * Minimal Fab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317650 - 6.0537056 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kapran, Anna - Hubička, Zdeněk - Poruba, A. - Dolák, J.
Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém.
[Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system.]
Interní kód: FVMF1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TM01000039
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: microwave surfatron * MinimalFab * low-temperature plasma * ALD * RF plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314808 - 7.0537054 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hrubantová, Aneta - Štěrba, J. - Mašková, H. - Olejníček, Jiří - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk
Funkční vzorek antivirálního povlaku CuFeO2.
[Functional sample of antiviral thin film CuFeO2.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU/2020 ; 2020
Technické parametry: doba depozice 1 h, průtok argonu QAr= 26 sccm, průtok kyslíku QO2= 2 sccm, pracovní tlak p = 2 Pa
Ekonomické parametry: Antivirální tenké vrstvy CuFeO2 byly deponovány pomocí RF magnetronového naprašování. Tato technologie je aplokovatelná v průmyslu a bude nabídnuta průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: antiviral films * RF sputtering * delafossite * magnetron
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314806 - 8.0537052 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Jetmar, Tomáš - Šmíd, Jiří - Sezemský, P. - Rozhoň, P. - Straňák, Vítězslav - Hubička, Zdeněk - Hrabovský, M. - Schovánek, Petr
Funkční vzorek součástí chráněné otěruvzdorným povlakem vhodným pro vysokou mechanickou a tepelnou zátěž.
[Functional sample of part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVNCK1/FZU-JU-UPOL/2020 ; 2020
Technické parametry: Předkládaný funkční vzorek představuje koncepční řešení pro depozice tvrdých, antiabrazivních vrstev (CrN) na vnitřní stěny dlouhých trubic s malým vnitřním průměrem.
Ekonomické parametry: Byla vyvinuta technologie průmyslového povlakování vnitřku dlouhých ocelových trubic tvrdým adhezivním otěruvzdorným povlakek a tento díl byl otestován a nabídnut průmyslovému partnerovi.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * thin films * tube * CrN * Cr
Obor OECD: Materials engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314804 - 9.0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
[Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
Interní kód: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314801 - 10.0518972 - FZÚ 2020 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Tvarog, Drahoslav - Jetmar, Tomáš
Funkční 3D vzorek s ochranným antiabrazivním a antikorozním povlakem vhodným pro vysoké mechanické a tepelné zatížení.
[Functional sample of 3D part protected with antiabrasive and anticorrosion coating suitable for high mechanical and thermal loads.]
Interní kód: FVG5/FZU/2019 ; 2019
Technické parametry: Délka povlakované trubice 120 mm, vnitřní průměr min. 7,6 mm, maximální tlušťka povlaku 30 mikrometrů. Max. počet vrstev 12, adhezní vrstva Cr, tvrdý povlak CrN.
Ekonomické parametry: Nasazení v průmyslu a nahrazení galvanického pokovování umožní úsporu nákladů na likvidaci ekologicky závadných elektrolytů. Dále plazmové povlaky zajistí vyšší reprodukovatelnost povlaků a větší konkurenceschopnost daného výrobku.
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode * coatings * thin films * chromium
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303972