Výsledky vyhledávání
- 1.0582298 - ÚFCH JH 2025 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Mansfeldová, Věra - Tarábková, Hana - Písaříková, Aneta - Hubička, Zdeněk - Kavan, Ladislav
High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties.
Journal of Solid State Electrochemistry. (2024). ISSN 1432-8488. E-ISSN 1433-0768
Grant CEP: GA ČR GA22-24138S
Institucionální podpora: RVO:61388955 ; RVO:68378271
Klíčová slova: atomic layer deposition * mott-schottky analysis * doped zno * tio2 * rf * crystalline * growth * oxide * al * Zinc oxide * Mott-Schottky analysis * Kelvin probe * Photoelectrochemistry * Spray pyrolysis * Reactive magnetron sputtering
Obor OECD: Electrochemistry (dry cells, batteries, fuel cells, corrosion metals, electrolysis)
Impakt faktor: 2.5, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://link.springer.com/article/10.1007/s10008-023-05766-6
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350413 - 2.0581746 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Čurda, P. - Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kylián, O. - Straňák, V. - Hubička, Zdeněk
The role of dimers in the efficient growth of nanoparticles.
Surface and Coatings Technology. Roč. 473, Nov. (2023), č. článku 130045. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: dimer * nanoparticle * gas aggregation nucleation * magnetron sputtering * energy-resolved mass spectrometry
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 5.4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349903 - 3.0579480 - FZÚ 2024 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Mishra, H. - Mašek, T. - Turek, Z. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kudrna, P. - Tichý, M.
Investigation of Tin removal for liquid metal Tokamak divertor by low pressure argon arc with hot tungsten cathode system.
Journal of Fusion Energy. Roč. 42, č. 2 (2023), č. článku 36. ISSN 0164-0313. E-ISSN 1572-9591
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Tin * Argon arc * hot cathode * optical emission spectroscopy * Langmuir probe * scanning electron microscope
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 1.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1007/s10894-023-00374-8
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348329 - 4.0577303 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Olejníček, Jiří - Venkrbcová, Ivana - Nožka, L. - Cichoň, Stanislav - Azinfar, A. - Hippler, Rainer - Helm, C.A. - Mašláň, M. - Machala, L. - Hubička, Zdeněk
CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 6 (2023), č. článku 063005. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * magnetron sputtering * RF
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346510Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0577303.pdf 0 5.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 5.0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198 - 6.0573076 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Mutzke, A. - Hubička, Zdeněk
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 5 (2023), č. článku 055013. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * reactive mode * pulse length dependence * ion composition * optical emission spectroscopy
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346388Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0573076.pdf 0 2.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 7.0570352 - ÚCHP 2024 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Jirátová, Květa - Soukal, Petr - Kapran, Anna - Babii, T. - Balabánová, Jana - Koštejn, Martin - Čada, Martin - Maixner, J. - Topka, Pavel - Hubička, Zdeněk - Kovanda, F.
Nickel-Copper Oxide Catalysts Deposited on Stainless Steel Meshes by Plasma Jet Sputtering: Comparison with Granular Analogues and Synergistic Effect in VOC Oxidation.
Catalysts. Roč. 13, č. 3 (2023), č. článku 595. E-ISSN 2073-4344
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:68378271
Klíčová slova: plasma jet sputtering * thin film * nickel-copper oxides
Obor OECD: Chemical process engineering; Fluids and plasma physics (including surface physics) (FZU-D)
Impakt faktor: 3.9, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2073-4344/13/3/595
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0341668Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup catalysts-13-00595.pdf 2 4.7 MB Vydavatelský postprint povolen - 8.0567078 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Antunes, V.G. - Hubička, Zdeněk - Ballage, C. - Minea, T.
Investigation of the magnetron balancing effect on the ionized flux fraction and deposition rate of sputtered titanium species for the high-power impulse magnetron sputtering pulses of different lengths.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 1 (2023), č. článku 013003. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * magnetron * ionized flux fraction * unbalanced magnetic field
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002309
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0342037 - 9.0566973 - ÚCHP 2024 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Jirátová, Květa - Čada, Martin - Naiko, Iryna - Ostapenko, Alina - Balabánová, Jana - Koštejn, Martin - Maixner, J. - Babii, T. - Topka, Pavel - Soukup, Karel - Hubička, Zdeněk - Kovanda, F.
Plasma Jet Sputtering as an Efficient Method for the Deposition of Nickel and Cobalt Mixed Oxides on Stainless-Steel Meshes: Application to VOC Oxidation.
Catalysts. Roč. 13, č. 1 (2023), č. článku 79. E-ISSN 2073-4344
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:68378271
Klíčová slova: plasma jet sputtering * thin films * nickel–cobalt oxides
Obor OECD: Chemical process engineering; Coating and films (FZU-D)
Impakt faktor: 3.9, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2073-4344/13/1/79
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338234Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup catalysts-13-00079-v2.pdf 3 3 MB Vydavatelský postprint povolen - 10.0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 3.2, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338068Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0566773.pdf 0 3.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen