Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0602230 - FZÚ 2025 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Knížek, Antonín - Ferus, Martin - Hubička, Zdeněk
    Generation of ammonia in a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar/H2/N2 gas mixture detected by Fourier transform infrared.
    ACS Sustainable Chemistry & Engineering. Roč. 12, č. 48 (2024), s. 17443-17449. ISSN 2168-0485. E-ISSN 2168-0485
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
    Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
    Klíčová slova: ammonia synthesis * hollow cathode discharge * ion mass spectrometry
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Physical chemistry (UFCH-W)
    Impakt faktor: 7.1, rok: 2023 ; AIS: 1.358, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.1021/acssuschemeng.4c08054
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0359428
     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0602230.pdf01.7 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
    Vědecká data: Zenodo
  2. 2.
    0601376 - FZÚ 2025 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Energy distribution of negatively and positively charged ions in a magnetron sputtering discharge with a tungsten cathode and a positively biased anode in an argon/oxygen gas mixture.
    Plasma Sources Science & Technology. Roč. 33, č. 11 (2024), č. článku 115006. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * HiPIMS * positively charged ions * negatively charged ions * ion energy distribution
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.3, rok: 2023 ; AIS: 0.653, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.1088/1361-6595/ad8dfa
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0358543
     
    Vědecká data: Zenodo
  3. 3.
    0600614 - ÚCHP 2025 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Jirátová, Květa - Čada, Martin - Naiko, Iryna - Ostapenko, Alina - Balabánová, Jana - Koštejn, Martin - Maixner, J. - Babii, T. - Topka, Pavel - Hubička, Zdeněk - Kovanda, F.
    A combination of plasma jet and magnetron sputtering - a new method for preparing thin Ni-Co-Mn oxide coatings on stainless steel meshes and their efficiency in the total oxidation of volatile organic compounds.
    Industrial and Engineering Chemistry Research. Roč. 63, č. 44 (2024), s. 18759-18772. ISSN 0888-5885. E-ISSN 1520-5045
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma jet sputtering * magnetron sputtering * thin films * Ni-Co-Mn oxides
    Obor OECD: Chemical process engineering; Fluids and plasma physics (including surface physics) (FZU-D)
    Impakt faktor: 3.8, rok: 2023 ; AIS: 0.65, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    Web výsledku:
    https://pubs.acs.org/doi/epdf/10.1021/acs.iecr.4c02299?ref=article_openPDF

    DOI: https://doi.org/10.1021/acs.iecr.4c02299
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0357931
     
     
    Vědecká data: repozitář ACS
  4. 4.
    0600482 - FZÚ 2026 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Písaříková, Aneta - Krýsová, Hana - Kapran, Anna - Písařík, Petr - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
    Semiconductor WO3 thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering.
    Materials Science in Semiconductor Processing. Roč. 186, Feb (2025), č. článku 109034. ISSN 1369-8001. E-ISSN 1873-4081
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HiPIMS * mid-frequency pulsed magnetron sputtering * photocurrent * plasma diagnostics * RF probe * semiconductor films
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 4.2, rok: 2023 ; AIS: 0.56, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.109034
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0357803
     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0600482.pdf04.8 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
    Vědecká data: Zenodo
  5. 5.
    0599279 - FZÚ 2025 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Knížek, Antonín - Ferus, Martin - Hubička, Zdeněk
    A pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar/N2/O2 gas mixture and the formation of nitric oxide.
    Plasma Chemistry and Plasma Processing. Roč. 44, č. 2 (2024), s. 1053-1068. ISSN 0272-4324. E-ISSN 1572-8986
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
    Klíčová slova: hollow cathode discharge * N2+O2 gas mixture * formation of NO and NO2 * optical emission spectroscopy * FTIR absorption spectroscopy * ion mass spectrometry
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Physical chemistry (UFCH-W)
    Impakt faktor: 2.6, rok: 2023 ; AIS: 0.486, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.1007/s11090-024-10450-2
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0356804
     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0599279.pdf11.9 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
  6. 6.
    0599249 - FZÚ 2025 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Niiranen, P. - Kapran, Anna - Nadhom, H. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Pedersen, H. - Lundin, D.
    Plasma electron characterization in electron chemical vapor deposition.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 42, č. 2 (2024), č. článku 023006. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: CVD * plasma electrons * plasma diagnostics
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.4, rok: 2023 ; AIS: 0.525, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.1116/6.0003408
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0356800
     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0599249.pdf03.9 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
  7. 7.
    0598059 - FZÚ 2025 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Volfová, Lenka - Písaříková, Aneta - Nepomniashchaia, Natalia - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Crystalline structure and optical properties of cobalt nickel oxide thin films deposited with a pulsed hollow-cathode discharge in an Ar+O2 gas mixture.
    Coatings. Roč. 14, č. 3 (2024), č. článku 319. ISSN 2079-6412. E-ISSN 2079-6412
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW06010462
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow-cathode discharge * mixed cobalt nickel oxide film * refractive index * absorption coefficient * optical bandgap
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 2.9, rok: 2023 ; AIS: 0.419, rok: 2023
    Způsob publikování: Open access
    DOI: https://doi.org/10.3390/coatings14030319
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0355829
     
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0598059.pdf01.5 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
  8. 8.
    0581746 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Čurda, P. - Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kylián, O. - Straňák, V. - Hubička, Zdeněk
    The role of dimers in the efficient growth of nanoparticles.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 473, Nov. (2023), č. článku 130045. ISSN 0257-8972. E-ISSN 1879-3347
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: dimer * nanoparticle * gas aggregation nucleation * magnetron sputtering * energy-resolved mass spectrometry
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 5.3, rok: 2023 ; AIS: 0.691, rok: 2023
    Způsob publikování: Omezený přístup
    Web výsledku:
    https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045DOI: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349903
     
  9. 9.
    0579480 - FZÚ 2024 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Mishra, H. - Mašek, T. - Turek, Z. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Kudrna, P. - Tichý, M.
    Investigation of Tin removal for liquid metal Tokamak divertor by low pressure argon arc with hot tungsten cathode system.
    Journal of Fusion Energy. Roč. 42, č. 2 (2023), č. článku 36. ISSN 0164-0313. E-ISSN 1572-9591
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: Tin * Argon arc * hot cathode * optical emission spectroscopy * Langmuir probe * scanning electron microscope
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 1.9, rok: 2023 ; AIS: 0.625, rok: 2023
    Způsob publikování: Omezený přístup
    Web výsledku:
    https://doi.org/10.1007/s10894-023-00374-8DOI: https://doi.org/10.1007/s10894-023-00374-8
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348329
     
  10. 10.
    0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
    Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.8, rok: 2023 ; AIS: 0.489, rok: 2023
    Způsob publikování: Omezený přístup
    Web výsledku:
    https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272DOI: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.