Výsledky vyhledávání
- 1.0583530 - FZÚ 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Novotný, Michal - Fitl, Přemysl - Remsa, Jan - Písařík, Petr - Pokorný, Petr - Bulíř, Jiří - Kmječ, Tomáš - Lančok, Ján - Hlavín, P.
Komora na pokrývání menších předmětů.
[Vacuum chamber for coating of smaller items.]
Interní kód: VK01010022-V3 ; 2023
Technické parametry: Válcová komora s průměrem 320 mm a délkou 450 mm. Komora je vybavena ISO-K přírubami: 2x DN 320, 6x DN 100 a ISO-KF: 3x DN 25. Čerpací systém - rotační olejová a turbomolekulární vývěva.
Ekonomické parametry: Komora bude sloužit v kriminalistické praxi v oboru daktyloskopie na KÚ Policie ČR.
Grant CEP: GA MV(CZ) VK01010022
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: vacuum chamber * dactyloscopy * magnetron sputtering * planetary rotating holder
Obor OECD: Mechanical engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0351545 - 2.0569054 - FZÚ 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
More Chevalier, Joris - Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, Přemysl - Lančok, Ján - Pokorný, Petr - Musil, Jindřich
Magnetronová hlava pro naprašování povlaků černých kovů.
[Magnetron sputter head for black metal coating.]
Interní kód: Magnetronová hlava pro naprašováni černých kovů ; 2022
Technické parametry: Magnetronová hlava tvaru obdélníkové katody o rozměrech 9 cm x 15 cm, Vodou chlazený terč s rozměry 7 cm x 14 cm, Limitní výkon magnetronu 1000 W, tlak pracovního plynu (argon) 0,5 Pa
Ekonomické parametry: 200 000 Kč
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TP01010035
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron sputtering * metal * black metal
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0340910 - 3.0500350 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, P. - Vrňata, M. - Bodnár, M. - Lančok, Ján
Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem.
[Deposition system for preparation of thin films by RF discharge plasma polymerization.]
Interní kód: Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak 10E-3 Pa, pracovní tlak 5 Pa, RF výkon 20 W, RF frekvence 13,56 MHz
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * magnetron sputtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292441