Výsledky vyhledávání
- 1.0552174 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Mareš, P. - Dubau, M. - Vyskočil, J.
Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním.
[Source for HiPIMS technology with arc evaporation.]
Interní kód: FVHA/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: HiPIMS zdroj plazmatu–pulzní frekvence: 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu–doba pulzu: 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku–typický proud: > 10 A/cm2 Zdroj plazmového oblouku–max. napětí: 2 000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * arc * magnetron * DLC
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327317