Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0510688 - FZÚ 2020 RIV GB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Ohashi, H. - Higashiguchi, T. - Suzuki, Y. - Kawasaki, M. - Suzuki, C. - Tomita, K. - Nishikino, M. - Fujioka, S. - Endo, Akira - Li, B. - Otsuka, T. - Dunne, P. - O'Sullivan, G.
    Characteristics of extreme ultraviolet emission from high-Z plasmas.
    Journal of Physics: Conference series. Vol. 688. Bristol: IOP Publishing Ltd., 2016, s. 1-4, č. článku 012079. ISSN 1742-6588.
    [International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications (IFSA) /8./. Nara (JP), 08.09.2013-13.09.2013]
    Grant ostatní: AV ČR(CZ) VP17
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: extreme ultraviolet (EUV) lithography * soft x-ray sources
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0301101
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0510688.pdf01.5 MBCC licenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  2. 2.
    0132105 - FZU-D 980400 RIV DB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Sumiya, M. - Kato, T. - Kawasaki, M. - Koinuma, H. - Matsuda, A. - Hata, N. - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan
    Quantitative evaluation of photovoltaic silicon materials by laser desorption time of flight mass analysis.
    Proceedings of the European Photovoltaic Solar Energy Conference /14./. Munich: H. S. Stephens and Ass., 1997, s. 1795.
    [European Photovoltaic Solar Energy Conference /14./. Barcelona (ES), 30.06.1997-04.07.1997]
    Grant CEP: GA AV ČR IAA1010528; GA ČR GA202/95/1445
    Grant ostatní: -(JP) NEDO-In.G.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030142
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.