Výsledky vyhledávání
- 1.0540442 - ÚFP 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vozda, V. - Burian, Tomáš - Hájková, V. - Juha, Libor - Enkisch, H. - Faatz, B. - Hermann, M. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Keitel, B. - Klinger, D. - Loch, R. - Louis, E. - Makhotkin, I.A. - Plönjes, E. - Saksl, K. - Siewert, F. - Sobierajski, R. - Strobel, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Vries de, M. S. - Zelinger, Z. - Chalupský, J.
Characterization of megahertz X-ray laser beams by multishot desorption imprints in PMMA.
Optics Express. Roč. 28, č. 18 (2020), s. 25664-25681. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: X-ray * laser beams * PMMA
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.894, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://www.osapublishing.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-28-18-25664&id=434470
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318045 - 2.0540378 - FZÚ 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Juha, Libor - Enkisch, H. - Faatz, B. - Hermann, M. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Keitel, B. - Klinger, D. - Loch, R. - Louis, E. - Makhotkin, I.A. - Ploenjes, E. - Saksl, K. - Siewert, F. - Sobierajski, R. - Strobel, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - de Vries, G. - Zelinger, Zdeněk - Chalupský, Jaromír
Characterization of megahertz X-ray laser beams by multishot desorption imprints in PMMA.
Optics Express. Roč. 28, č. 18 (2020), s. 25664-25681. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
Klíčová slova: multishot desorption imprints * free-electron laser (FEL) X-ray laser * poly(methyl methacrylate) (PMMA)
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Physical chemistry (UFCH-W)
Impakt faktor: 3.894, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318008Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0540378.pdf 1 1.9 MB OA vydavatele Vydavatelský postprint povolen - 3.0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348 - 4.0503381 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Krzywinski, J. - Andrejczuk, A. - Bionta, R. M. - Burian, T. - Chalupský, J. - Jurek, M. - Kirm, M. - Nagirnyi, V. - Sobierajski, R. - Tiedtke, K. - Vielhauer, S. - Juha, Libor
Saturation of a Ce: Y3Al5O12 scintillator response to ultra-short pulses of extreme ultraviolet soft X-ray and X-ray laser radiation.
Optical Materials Express. Roč. 7, č. 3 (2017), s. 665-675. ISSN 2159-3930
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: fluorescent and luminescent materials * luminescence * free-electron lasers (FELs) * UV * EUV * X-ray lasers * laser beam characterization * radiometer
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.566, rok: 2017
https://www.osapublishing.org/ome/fulltext.cfm?uri=ome-7-3-665&id=357883
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295199 - 5.0502418 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Krzywinski, J. - Andrejczuk, A. - Bionta, R.M. - Burian, Tomáš - Chalupský, Jaromír - Jurek, M. - Kirm, M. - Nagirnyi, V. - Sobierajski, R. - Tiedtke, K. - Vielhauer, S. - Juha, Libor
Saturation of a Ce:Y3Al5O12 scintillator response to ultra-short pulses of extreme ultraviolet soft X-ray and X-ray laser radiation.
Optical Materials Express. Roč. 7, č. 3 (2017), s. 665-675. ISSN 2159-3930
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LH14072; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: fluorescent and luminescent materials * luminescence * free-electron lasers (FELs) * UV * EUV * X-ray lasers * laser beam characterization * radiometr
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.566, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0294353 - 6.0500161 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Milov, I. - Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Medvedev, Nikita - Lipp, V. - Chalupský, J. - Sturm, J.M. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Siewert, F. - van de Kruijs, R. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Juha, L. - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, T. - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H. - Bijkerk, F.
Mechanism of single-shot damage of Ru thin films irradiated by femtosecond extreme UV free-electron laser.
Optics Express. Roč. 26, č. 15 (2018), s. 19665-19685. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001552
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: molecular-dynamics * threshold measurements * multilayer optics * lattice-dynamics * metal targets * pulse * ablation * spallation * radiation * surface
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.561, rok: 2018
https://www.osapublishing.org/oe/abstract.cfm?uri=oe-26-15-19665
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292293 - 7.0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344 - 8.0489644 - ÚFP 2019 RIV DK eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Sobierajski, R. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-29772S; GA MŠMT LG15013
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284055 - 9.0487414 - FZÚ 2019 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I. - Sobierajski, R. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - de Vries, G. - Stoermer, M. - Scholze, F. - Siewert, F. - van de Kruijs, R.W.E. - Milov, I. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Nittler, L. - Syryanyy, Y. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R.A. - Hermann, M. - Strobel, S. - Nienhuys, H.-K. - Gwalt, G. - Mey, T. - Enkisch, H.
Experimental study of EUV mirror radiation damage resistance under long-term free-electron laser exposures below the single-shot damage threshold.
Journal of Synchrotron Radiation. Roč. 25, č. 1 (2018), s. 77-84. ISSN 0909-0495. E-ISSN 1600-5775.
[Workshop on FEL Photon Diagnostics, Instrumentation and Beamline Design (PhotonDiag2017). Stanford, 01.05.2017-03.05.2017]
Grant CEP: GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron laser induced damage * EUV optics * thin films * FELs
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.452, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0283325 - 10.0448130 - FZÚ 2016 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Chalupský, Jaromír - Vyšín, Luděk - Boháček, Pavel - Přeček, Martin - Wild, J. - Özkan, C. - Coppola, N. - Farahani, S.D. - Schulz, J. - Sinn, H. - Tschentscher, T. - Gaudin, J. - Bajt, S. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Chapman, H.N. - Loch, R.A. - Jurek, M. - Sobierajski, R. - Krzywinski, J. - Moeller, S. - Harmand, M. - Galasso, G. - Nagasono, M. - Saskl, K. - Sovák, P. - Juha, Libor
Soft x-ray free-electron laser induced damage to inorganic scintillators.
Optical Materials Express. Roč. 5, č. 2 (2015), 254-264. ISSN 2159-3930
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP108/11/1312; GA MŠMT EE2.3.30.0057
Grant ostatní: OP VK 4 POSTDOK(XE) CZ.1.07/2.3.00/30.0057
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: fluorescent and luminescent materials * laser damage * free-electron lasers * soft x-rays * laser materials processing
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 2.657, rok: 2015
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0249856