Výsledky vyhledávání

0050997 - ÚPT 2007 cze K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Urbánek, Michal
Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie.
[Relief structures prepared by electron beam lithography.]
PDS 2006 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronová optika. Brno: ÚPT AV ČR, 2006, s. 51-54. ISBN 80-239-7957-4.
[PDS 2006. Brno (CZ), 19.12.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Klíčová slova: electron beam lithography * AFM
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0140999