Výsledky vyhledávání
- 1.0386391 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Urbánek, Michal - Bok, Jan - Krátký, Stanislav - Král, Stanislav - Mika, Filip
What is the buzz about the TZ mode.
Proceedings of the 13th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2012 - (Mika, F.), s. 37-38. ISBN 978-80-87441-07-7.
[International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /13./. Skalský dvůr (CZ), 25.06.2012-29.06.2012]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e-beam lithography * variable shaped electron beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215691 - 2.0092589 - ÚPT 2008 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Kolařík, Vladimír
Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System.
[Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu.]
Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy. Prague: Czechoslovak Microscopy Society, 2007 - (Nebesářová, J.; Hozák, P.), s. 87-88. ISBN 978-80-239-9397-4.
[Multinational Congress on Microscopy /8./. Prague (CZ), 17.06.2007-21.06.2007]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: rectangular-shaped electron beam * e-beam writing system.
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0152867 - 3.0092382 - ÚPT 2008 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lencová, Bohumila
CAD in Electron Optics.
[CAD v elektronové optice.]
Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy. Prague: Czechoslovak Microscopy Society, 2007 - (Nebesářová, J.; Hozák, P.), s. 19-20. ISBN 978-80-239-9397-4.
[Multinational Congress on Microscopy /8./. Prague (CZ), 17.06.2007-21.06.2007]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325; GA ČR(CZ) GA102/05/0886
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: CAD * electron optics * user interfaces
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0152720 - 4.0082844 - ÚPT 2007 RIV GB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lencová, Bohumila - Zlámal, Jakub
EOD (Electron Optical Design) Program.
[Program EOD (pro návrh elektronově optických zařízení).]
CPO-7 Seventh International Conference on Charged Particle Optics - Abstracts for Computer Software Demonstrations. London: Munro's Electron Beam Software Ltd., 2006, s. 19.
[Charged Particle Optics /7./. Cambridge (GB), 24.07.2006-28.07.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: optics of charged particles * design of electron microscopes * user inetrface * numerical methods of ray tracing * the finite element method
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0146289 - 5.0052944 - ÚPT 2007 RIV GB eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lencová, Bohumila - Zlámal, Jakub
A New Program for the Design of Electron Microscopes.
[Nový programu pro návrh elektronových mikroskopů.]
CPO-7 Seventh International Conference on Charged Particle Optics. London: Munro's Electron Beam Software Ltd., 2006, s. 71-72.
[Charged Particle Optics /7./. Cambridge (GB), 24.07.2006-28.07.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: optics of charged particles * design of electron microscopes * user inetrface * numerical methods of ray tracing * the finite element method
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0141366 - 6.0049021 - ÚPT 2007 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Radlička, Tomáš
Coulomb Interaction in Ion and Electron Beams.
[Coulombovské interakce v iontových a elektronových svazcích.]
Proceedings of the 10th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: ISI AS CR, 2006 - (Müllerová, I.), s. 61-62. ISBN 80-239-6285-X.
[Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /10./. Skalský dvůr (CZ), 22.05.2006-26.05.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: Coulomb interaction * LMIS * lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0139518