Výsledky vyhledávání
- 1.0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
[Lithographic mask with nanometer accuracy.]
Interní kód: APL-2024-02 ; 2024
Technické parametry: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration * optical * devices * resolution
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0352542 - 2.0564285 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Komplexní zabezpečovací známka.
[A comprehensive security stamp.]
Interní kód: APL–2022‐05 ; 2022
Technické parametry: Zabezpečovací známka v polymerním materiálu provedená zápisem pomocí elektronové litografie obsahující difrakční opticky variabilní obrazové prvky typu struktur s krátkou a velmi krátkou periodou, neperiodické struktury s variabilní hloubkou, blejzované struktury, mikročočky a další zajišťovací prvky v mikro a nano oblasti
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: security * diffraction * optically variable image element * e‐beam writer * periodic * non‐periodic * blazed * microlens
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0336066 - 3.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Interní kód: APL-2021-03 ; 2021
Technické parametry: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 4.0543692 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Burda, Daniel - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pirunčík, J. - Aubrecht, I.
Vzorník parciálních difrakčních a refrakčních struktur.
[Sampler of partial diffractive and refractive elements.]
Interní kód: APL-2021-02 ; 2021
Technické parametry: Master (Si), galvanická replika (Ni), výlisek v polymerním materiálu.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
Grant CEP: GA MV(CZ) VI20192022147
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffraction * refraction * optically variable image element * e-beam writer
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0320871 - 5.0539634 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Škoda, D. - Pavlačík, P. - Proroková, J. - Matějka, Milan - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Difraktivní optický element velikosti záměrného bodu vyvazující dopadající záření do 1. difrakčního řádu s využitím ve sportovní a vojenské optice.
[Diffractive optical element of size of aiming point binding incident radiation to the 1st diffraction order with use in sports and military optics.]
Interní kód: APL-2020-23 ; 2020
Technické parametry: Vzorek obsahují řadu difraktivních bodů se submikronovou reliéfní strukturou vytvořenou metodou EBL a Lift-off za účelem vyvázání světla z laserové diody
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317342 - 6.0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
[An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
Interní kód: APL-2020-10 ; 2020
Technické parametry: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314401