Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0581746 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Čurda, P. - Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kylián, O. - Straňák, V. - Hubička, Zdeněk
    The role of dimers in the efficient growth of nanoparticles.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 473, Nov. (2023), č. článku 130045. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: dimer * nanoparticle * gas aggregation nucleation * magnetron sputtering * energy-resolved mass spectrometry
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 5.4, rok: 2022
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349903
     
     
  2. 2.
    0577303 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Písaříková, Aneta - Olejníček, Jiří - Venkrbcová, Ivana - Nožka, L. - Cichoň, Stanislav - Azinfar, A. - Hippler, Rainer - Helm, C.A. - Mašláň, M. - Machala, L. - Hubička, Zdeněk
    CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 6 (2023), č. článku 063005. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: ECWR * magnetron sputtering * RF
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346510
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0577303.pdf05.5 MBCC licenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  3. 3.
    0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
    Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 4, rok: 2022
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198
     
     
  4. 4.
    0573076 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Mutzke, A. - Hubička, Zdeněk
    Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge.
    Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 5 (2023), č. článku 055013. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * reactive mode * pulse length dependence * ion composition * optical emission spectroscopy
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346388
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0573076.pdf02.5 MBCC licenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  5. 5.
    0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
    Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
    Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
    Obor OECD: Coating and films
    Impakt faktor: 3.2, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338068
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0566773.pdf03.5 MBCC licenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  6. 6.
    0564937 - FZÚ 2023 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Ion energy distribution of plasma ions of a hollow cathode discharge in Ar + N2 and Ar + O2 gas mixtures.
    European Physical Journal D. Roč. 76, č. 11 (2022), č. článku 214. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: plasma jet * plasma sputtering * ion * oxygen * nitrogen
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 1.8, rok: 2022
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0336517
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0564937.pdf0749.6 KBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  7. 7.
    0562485 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
    Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 40, č. 6 (2022), č. článku 063402. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: reactive sputtering * plasma * thin films * semiconductor * XRD
    Obor OECD: Coating and films
    Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1116/6.0002012
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335052
     
     
  8. 8.
    0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
    WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
    Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 4, rok: 2022
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330352
     
     
  9. 9.
    0552303 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 39, č. 4 (2021), č. článku 043007. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: magnetron * mass spectrometry * Langmuir probe * anode bias * HiPIMS
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Impakt faktor: 3.234, rok: 2021
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327435
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0552303.pdf14.6 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
     
  10. 10.
    0552302 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
    A positively biased external anode for energy control of plasma ions: hollow cathode and magnetron sputtering discharge.
    Plasma Sources Science & Technology. Roč. 30, č. 4 (2021), č. článku 045003. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
    Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: hollow cathode discharge * magnetron sputtering discharge * positively biased anode * Langmuir probe diagnostics * energy-resolved ion mass spectrometry
    Obor OECD: Coating and films
    Impakt faktor: 4.124, rok: 2021
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327434
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0552302.pdf12.3 MBCC LicenceVydavatelský postprintpovolen
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.