Výsledky vyhledávání
- 1.0581746 - FZÚ 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Čurda, P. - Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kylián, O. - Straňák, V. - Hubička, Zdeněk
The role of dimers in the efficient growth of nanoparticles.
Surface and Coatings Technology. Roč. 473, Nov. (2023), č. článku 130045. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: dimer * nanoparticle * gas aggregation nucleation * magnetron sputtering * energy-resolved mass spectrometry
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 5.4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.130045
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349903 - 2.0577303 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Olejníček, Jiří - Venkrbcová, Ivana - Nožka, L. - Cichoň, Stanislav - Azinfar, A. - Hippler, Rainer - Helm, C.A. - Mašláň, M. - Machala, L. - Hubička, Zdeněk
CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 6 (2023), č. článku 063005. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * magnetron sputtering * RF
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346510Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0577303.pdf 0 5.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 3.0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198 - 4.0573076 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Mutzke, A. - Hubička, Zdeněk
Pulse length dependence of a reactive high power impulse magnetron (HiPIMS) discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 5 (2023), č. článku 055013. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * reactive mode * pulse length dependence * ion composition * optical emission spectroscopy
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0346388Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0573076.pdf 0 2.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 5.0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 3.2, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338068Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0566773.pdf 0 3.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 6.0564937 - FZÚ 2023 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Ion energy distribution of plasma ions of a hollow cathode discharge in Ar + N2 and Ar + O2 gas mixtures.
European Physical Journal D. Roč. 76, č. 11 (2022), č. článku 214. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma jet * plasma sputtering * ion * oxygen * nitrogen
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 1.8, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0336517Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0564937.pdf 0 749.6 KB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 7.0562485 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 40, č. 6 (2022), č. článku 063402. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive sputtering * plasma * thin films * semiconductor * XRD
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002012
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335052 - 8.0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330352 - 9.0552303 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 39, č. 4 (2021), č. článku 043007. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron * mass spectrometry * Langmuir probe * anode bias * HiPIMS
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.234, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327435Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552303.pdf 1 4.6 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 10.0552302 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
A positively biased external anode for energy control of plasma ions: hollow cathode and magnetron sputtering discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 30, č. 4 (2021), č. článku 045003. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * magnetron sputtering discharge * positively biased anode * Langmuir probe diagnostics * energy-resolved ion mass spectrometry
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.124, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327434Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552302.pdf 1 2.3 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen