Výsledky vyhledávání

0582474 - ÚFP 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Akhmetov, F. - Milov, I. - Semin, S. - Formisano, F. - Medvedev, Nikita - Sturm, J.M. - Zhakhovsky, V.V. - Makhotkin, I.A. - Kimel, A. - Ackermann, M.
Laser-induced electron dynamics and surface modification in ruthenium thin films.
Vacuum. Roč. 212, June (2023), č. článku 112045. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2018114; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552
Grant ostatní: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy - GA MŠk(CZ) LM2018140
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: Femtosecond laser damage * Fermi smearing * Pump-probe thermoreflectance * Ruthenium * Thin films * Two-temperature molecular dynamics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0042207X23002427?via%3Dihub
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350538

0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348

0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344