Výsledky vyhledávání
- 1.0556005 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Cadatal-Raduban, M. - Kato, T. - Horiuchi, Y. - Olejníček, Jiří - Kohout, Michal - Yamanoi, K. - Ono, S.
Effect of substrate and thickness on the photoconductivity of nanoparticle titanium dioxide thin film vacuum ultraviolet photoconductive detector.
Nanomaterials. Roč. 12, č. 1 (2022), č. článku 10. E-ISSN 2079-4991
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nanoparticle * thin film * titanium dioxide * wide band gap * semiconductor * vacuum ultraviolet * photoconductive detector
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 5.3, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330370Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0556005.pdf 0 6.6 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 2.0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330352 - 3.0552303 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 39, č. 4 (2021), č. článku 043007. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron * mass spectrometry * Langmuir probe * anode bias * HiPIMS
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.234, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327435Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552303.pdf 1 4.6 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 4.0552302 - FZÚ 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
A positively biased external anode for energy control of plasma ions: hollow cathode and magnetron sputtering discharge.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 30, č. 4 (2021), č. článku 045003. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * magnetron sputtering discharge * positively biased anode * Langmuir probe diagnostics * energy-resolved ion mass spectrometry
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.124, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327434Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552302.pdf 1 2.3 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 5.0541687 - FZÚ 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Olejníček, Jiří - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Wulff, H. - Kruth, A. - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Deposition of cobalt oxide films by reactive pulsed magnetron sputtering.
Surface and Coatings Technology. Roč. 405, Jan (2021), č. článku 126590. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; AV ČR(CZ) StrategieAV21/6
Program: StrategieAV
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: cobalt oxide film * pulsed magnetron sputtering * HiPIMS * Raman spectroscopy * XPS * XRD * electrical resistivity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.865, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126590
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0319218 - 6.0533973 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kapran, Anna - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Zanáška, Michal - Adámek, Petr - Tichý, M.
Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture.
Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-17, č. článku 246. E-ISSN 2079-6412
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA19-00579S; GA MPO FV20580
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * Langmuir probe * optical emission spectrometry * time-resolved probe measurements * H2S * electron density * electron temperature
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.881, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0312196Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0533973.pdf 0 4 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 7.0531792 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Zlámal, M. - Olejníček, Jiří - Tvarog, Drahoslav - Čada, Martin - Krýsa, J.
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system.
Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14, č. článku 232. E-ISSN 2079-6412
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: photocathode film * r-HiPIMS plus ECWR plasma * r-HiPIMS plasma * copper iron oxide * photocurrent
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 2.881, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0310408Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0531792.pdf 0 3.6 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 8.0518124 - FZÚ 2021 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Sezemský, P. - Straňák, V. - Kratochvíl, J. - Čada, Martin - Hippler, R. - Hrabovský, M. - Hubička, Zdeněk
Modified high frequency probe approach for diagnostics of highly reactive plasma.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 28, č. 11 (2019), s. 1-10, č. článku 115009. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: rf Sobolewski probe * probe measurement in reactive plasma * C2H2 discharge
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.193, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1088/1361-6595/ab506c
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303302