0500349 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Lančok, Ján - Novotný, Michal - More Chevalier, Joris - Fitl, P. - Myslík, V. - Vrňata, M. - Vlček, J. - Bodnár, M.Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace.
[Apparatus for deposition of homogenous sensor active layers by plasma polymerization.]
Interní kód: Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace ; 2018
Technické parametry: Pracovní tlak 10E-3Pa, teplota odpařování organického prekurzoru v rozsahu 30 až 600°C, rozměr homogenně pokryté oblasti aktivní vrstvou min 50x50 mm, RF výkon pro rozklad a ionizaci par 5 až 100W.
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * vacuum evaporation
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292439
