Výsledky vyhledávání
- 1.0573585 - ÚPT 2024 RIV CZ eng L - Prototyp, funkční vzorek
Mrňa, Libor - Kolařík, Vladimír - Hopp, J. - Horák, S. - Stoklasa, B. - Úlehla, L.
Compensated telecentric F-Theta projection objective for micromachining applications at 257 nm.
Interní kód: APL-2022-38 ; 2022
Technické parametry: Výsledkem je design funkčního vzorku a funkční vzorek f-theta objektivu s difraktivním prvkem pro korekci chromatické aberace.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. RNDr. Libor Mrňa, Ph.D, mrna@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: F-theta objective * Laser micromachining * Diffractive optical element * Pulsed high-power laser * Chromatic aberration correction
Obor OECD: Mechanical engineering
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344001 - 2.0570633 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Pavlačík, P. - Škoda, D. - Matějka, Milan
Matrice s difraktivními prvky přizpůsobená více násobné výrobě záměrných křížů ve sportovní a vojenské optice.
[Matrix with diffractive elements adapted to multiple production of intentional crosses in sports and military optics.]
Interní kód: APL-2021-17 ; 2021
Technické parametry: Matrice pro realizaci difraktivní mřížky záměrného kříže. Periodická submikrometrová struktura účinně zesilující laserový svazek v 1. difraktivním řádu. Tento design vede ke snížení energetické náročnosti osvětlovacího modulu záměrného kříže.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: nanoimprint * NIL * reticle * diffractive pattern
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0341939 - 3.0566537 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel
Tvarovač svazku s homogenizující funkcí do tvaru TopHat.
[TopHat beam shaper.]
Interní kód: APL-2022-09 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící k homogenizaci vstupního svazku do tvaru TopHat
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: TopHat beam * diffractive optical element * e-beam lithography * wet etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337865 - 4.0566464 - ÚPT 2023 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Venos, Š. - Stoklasa, B. - Kuchařík, J. - Hopp, J. - Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Pokorný, Pavel - Fořt, Tomáš
Difraktivní mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce.
[Diffractive beam splitter with high precision of angular distribution.]
Interní kód: APL-2022-08 ; 2022
Technické parametry: Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící jako mnohonásobný dělič svazku s vysokou přesností úhlové distribuce
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Štěpán Venos, stepan.venos@meopta.com
Grant CEP: GA MPO(CZ) FV40197
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: beam splitter * diffractive optical element * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337789 - 5.0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586