Výsledky vyhledávání
- 1.0462264 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Petr - Straňák, Vítězslav
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny.
[Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 07.06.2016. Číslo vzoru: 29519
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261744 - 2.0448124 - FZÚ 2016 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Kromka, Alexander
Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů.
[Hybrid plasma nozzle with surface wave for exciting extremely reactive discharges.]
2015. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 14.07.2015. Číslo vzoru: 28463
Grant CEP: GA MŠMT LH12045; GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sufatron * plasma technology * discharge plasma
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0028/uv028463.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0249847 - 3.0383946 - FZÚ 2013 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Dejneka, Alexandr - Čada, Martin - Adámek, Petr - Jastrabík, Lubomír - Suchaneck, G. - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán - Straňák, Vítězslav
Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev.
[Plasma system developed for deposition of perovskite thin films.]
2012. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v.v. i. Datum udělení vzoru: 21.05.2012. Číslo vzoru: 23845
Grant CEP: GA ČR GC202/09/J017; GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: plasma * magnetron sputtering * plasma-jet * PZT thin films
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0023/uv023845.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0213731