Výsledky vyhledávání
- 1.0482751 - ÚPT 2018 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr - Mika, Filip - Chlumská, Jana - Matějka, František - Král, Stanislav - Brunn, Ondřej - Giričová, D. - Kopal, Jaroslav - Kolařík, Vladimír
Deterministicky aperiodické obrazové zařízení.
[Deterministic Aperiodic Image Device.]
Sborník příspěvků multioborové konference LASER57. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2017 - (Růžička, B.), s. 34-35. ISBN 978-80-87441-21-3.
[LASER57. Třešť (CZ), 08.11.2017-10.11.2017]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR(CZ) TG03010046; GA MPO(CZ) FV10618
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * diffractive optically variable image device
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278201 - 2.0390983 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Král, Stanislav - Bok, Jan
E-beam pattern generator BS600 and technology zoom.
NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2012, s. 822-825. ISBN 978-80-87294-32-1.
[NANOCON 2012. International Conference /4./. Brno (CZ), 23.10.2012-25.10.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: E-beam pattern generator * E-beam lithography * reduced size shaped beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219948 - 3.0390980 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Horáček, Miroslav - Matějka, František - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Urbánek, Michal
Nano modification of the W(100)/ZrO electron emitter tip using reactive ion etching.
NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2012, s. 723-728. ISBN 978-80-87294-32-1.
[NANOCON 2012. International Conference /4./. Brno (CZ), 23.10.2012-25.10.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron emitter * reactive ion etching * electron emission * thermal field * W(100)/ZrO
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219850 - 4.0390977 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Matějka, František - Bok, Jan - Mikšík, P. - Vašina, J.
Shaped E-beam nanopatterning with proximity effect correction.
NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2012, s. 717-722. ISBN 978-80-87294-32-1.
[NANOCON 2012. International Conference /4./. Brno (CZ), 23.10.2012-25.10.2012]
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e-beam writer * shaped beam * proximity effect correction
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219844 - 5.0390976 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Matějka, František - Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Bok, Jan
Calibration specimens for microscopy.
NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2012, s. 713-716. ISBN 978-80-87294-32-1.
[NANOCON 2012. International Conference /4./. Brno (CZ), 23.10.2012-25.10.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: E-beam technology * calibration specimen * scanning electron microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219838 - 6.0390975 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Bok, Jan - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Matějka, František
Analysis of electron current instability in E-beam writer.
NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2012, s. 295-299. ISBN 978-80-87294-32-1.
[NANOCON 2012. International Conference /4./. Brno (CZ), 23.10.2012-25.10.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020118; GA MPO FR-TI1/576
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam * current measurement * current drift and noise * fourier analysis
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219831 - 7.0387383 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Urbánek, Michal - Matějka, František - Matějka, Milan
Thin Metallic Layers Structured by E-beam Lithography.
METAL 2012 Conference Proceedings. 21st International Conference on Metallurgy and Materials. Ostrava: TANGER Ltd, 2012. ISBN 978-80-87294-29-1.
[METAL 2012. International Conference on Metallurgy and Materials /21./. Brno (CZ), 23.05.2012-25.05.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: E-beam lithography * shaped electron beam * thin metallic layers * micro structures
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0216599 - 8.0386391 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Urbánek, Michal - Bok, Jan - Krátký, Stanislav - Král, Stanislav - Mika, Filip
What is the buzz about the TZ mode.
Proceedings of the 13th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2012 - (Mika, F.), s. 37-38. ISBN 978-80-87441-07-7.
[International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /13./. Skalský dvůr (CZ), 25.06.2012-29.06.2012]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e-beam lithography * variable shaped electron beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215691 - 9.0386389 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Matějka, František - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan
Thermal-field electron emission W(100)/ZrO cathode: facets versus edges.
Proceedings of the 13th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2012 - (Mika, F.), s. 27-28. ISBN 978-80-87441-07-7.
[International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /13./. Skalský dvůr (CZ), 25.06.2012-29.06.2012]
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron emission * tungsten crystallography * thermal field cathode
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215701 - 10.0352423 - ÚPT 2011 RIV BR eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Matějka, František - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Král, Stanislav
Modification of the Schottky FE ZrO/W electron emitter.
Proceedings of the 17th IFSM International Microscopy Congress. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Microscopia e Microanilise, 2010, I1.12: 1-2. ISBN 978-85-63273-06-2.
[International Microscopy Congress (IMC17) /17./. Rio de Janeiro (BR), 19.09.2010-24.09.2010]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100650803; GA MPO FR-TI1/576; GA MŠMT ED0017/01/01
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: e-beam writing system * rectangular-shaped electron beam * point projection
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0191931